Nous utilisons des implanteurs ioniques pour semi-conducteurs destinés au remplacement, à l'extension de capacité et aux procédés de fabrication de plaquettes matures. Nous stockons et accompagnons les acheteurs dans l'évaluation des plateformes d'implantation à courant élevé, moyen, haute énergie et spécialisées.
Que vous remplaciez un outil vieillissant, augmentiez votre capacité de production ou recherchiez une plateforme OEM spécifique, nous pouvons vous aider à examiner l'orientation de l'équipement, la configuration de la source d'ions et de la ligne de faisceau, la manutention des plaquettes et le périmètre de livraison.
Veuillez nous communiquer le fabricant, le modèle, la taille de la plaquette ou les exigences d'implantation cibles afin que nous puissions commencer à examiner les équipements appropriés, la compatibilité des procédés et les exigences en matière d'utilités de fabrication.
Consultez notre sélection actuelle de systèmes d'implantation ionique d'occasion pour la fabrication de plaquettes semi-conductrices. Les plateformes et configurations disponibles évoluent régulièrement ; il est donc impératif de vérifier la compatibilité de la source d'ions, de la ligne de faisceau, de la station terminale, du système de manipulation des plaquettes, du système de contrôle et des équipements auxiliaires avec la machine choisie avant tout achat.
Si la plateforme requise ne figure pas dans la liste actuelle, veuillez nous indiquer le fabricant, le modèle, la taille de la plaquette, la plateforme de production actuelle ou les exigences d'implantation visées. Nous pourrons ainsi examiner les équipements disponibles et les options d'approvisionnement sur demande.
Le choix d'un implanteur ionique commence par la définition de la plage de paramètres de procédé requise, et non par la seule dénomination de l'appareil. La recherche doit être guidée par l'ion cible, l'énergie, la dose, l'état de la plaquette et les objectifs du procédé.
Le système génère des ions, les accélère et les sépare en fonction de leur masse, contrôle le faisceau et le dirige ou le balaie sur la plaquette. Différentes plateformes gèrent cette séquence de différentes manières.
| Besoins réels du processus | Direction de l'équipement pertinent | Ce qui reste à revoir |
|---|---|---|
| Production à haute dose ou à courant de faisceau élevé | Courant élevé | Espèces ioniques, fenêtre énergétique, gamme de doses, courant du faisceau, température de la plaquette et objectif de débit |
| Gamme de procédés plus étendue et flexibilité opérationnelle accrue | Courant moyen / Implant flexible | Fenêtre énergétique, contrôle de la dose, angle d'implantation, configuration du faisceau et plateforme de la plaquette |
| Profils d'implants plus profonds | Haute énergie | Gamme d'énergie utilisable, configuration de la ligne de faisceau, espèces ioniques et processus cible |
| SiC, procédés d'implantation à haute température ou dédiés | Implant spécialisé / haute température | Matériau de la plaquette, contrôle de la température, source d'ions, station terminale et configuration réelle de la machine |
Un implanteur ionique combine des systèmes haute tension, vide poussé, ligne de faisceau, gaz et de manipulation de plaquettes. Ces cinq points de contrôle permettent de déterminer si une plateforme d'occasion mérite une évaluation plus approfondie.
Espèces ioniques requises, gamme d'énergie, gamme de doses, exigences en matière de courant de faisceau, type de source d'ions et configuration de ligne de faisceau compatible.
Évitez de recevoir une machine qui ne peut pas couvrir la plage d'ions, d'énergie ou de dose requise.
Uniformité de la dose, contrôle de l'angle d'implantation, stabilité du faisceau, gestion de la température de la plaquette et enregistrements disponibles concernant les particules, la contamination et la maintenance.
Évitez un système qui fonctionne mais qui ne peut pas respecter les limites requises en matière d'uniformité, de contrôle des angles ou de contamination.
capacité de 150 mm, 200 mm ou 300 mm, matériau et épaisseur de la plaquette, format cassette ou FOUP, EFEM, station d'extrémité et traitement de plaquettes individuelles ou par lots.
Évitez d'acheter une plateforme d'implant adaptée dont la taille des plaquettes ou le système de manipulation ne peuvent pas se connecter à la ligne existante.
Informations sur la charge électrique, le refroidissement, le vide, l'alimentation en gaz dopant, l'échappement et la réduction des émissions, les interverrouillages, l'encombrement, le poids et le système haute tension de l'installation.
Évitez d'amener la machine sur site pour ensuite constater que les conditions d'alimentation électrique, de refroidissement, d'évacuation des gaz ou de traitement des gaz disponibles ne sont pas compatibles.
Débit prévu, configuration du faisceau, état et historique de maintenance de la source d'ions, composants du vide, ensembles haute tension, commandes et exigences en pièces connues.
Évitez un outil qui s'adapte au processus mais qui engendre des temps d'arrêt excessifs, une charge de maintenance trop importante ou des coûts de production trop élevés.
Veuillez envoyer le modèle, la plateforme actuelle, l'espèce d'ions, la taille de la plaquette, l'énergie cible ou la fenêtre de dose, ainsi que les informations sur l'équipement disponible.
Le maintien d'une orientation de processus établie sur une plateforme familière peut réduire la portée du transfert et de la requalification des recettes.
Lorsqu'un système installé vieillit ou que la plateforme d'origine n'est plus facilement disponible en tant qu'équipement neuf, un système d'occasion compatible peut contribuer à maintenir en fonctionnement une ligne de production mature tout en réduisant l'investissement initial.
Une plateforme similaire ne reproduit pas automatiquement le processus existant. La compatibilité finale dépend toujours de la source d'ions, de la ligne de faisceau, de la station terminale, des commandes, du système de manipulation des plaquettes et des équipements auxiliaires fournis avec la machine.
Utilisez la même famille de plateformes ou un autre système approprié lorsque l'acquisition de nouveaux équipements n'est plus envisageable pour un processus établi.
Ajouter un système compatible pour soutenir la croissance de la production tout en conservant la technologie d'implants déjà utilisée par la ligne.
Les ensembles de lignes de faisceau, les stations d'extrémité, les modules de manipulation de plaquettes ou les composants de support peuvent être examinés en même temps que la demande d'équipement principal lorsque des informations suffisantes sur le modèle et la configuration sont disponibles.
Les implanteurs ioniques comprennent des systèmes haute tension, de vide, de faisceau et de manutention de plaquettes qui requièrent une manipulation soigneuse avant, pendant et après l'expédition. Nous vous aidons à définir précisément le périmètre de la livraison et à orienter votre assistance en fonction de la plateforme et des spécificités de votre projet.
L'installation sur site, le développement des processus et la maintenance à long terme ne sont pas inclus par défaut. Ces interventions doivent être définies dans le devis final ou le périmètre de la prestation.
Demande d'assistance pour le système d'implant ioniqueCes questions couvrent les principaux problèmes auxquels les acheteurs sont confrontés lorsqu'ils examinent des équipements d'implantation ionique pour semi-conducteurs d'occasion.
Les implanteurs à courant élevé sont généralement utilisés lorsque l'intensité du faisceau et la production de doses élevées sont essentielles, souvent dans les gammes d'énergie basses à moyennes. Les systèmes à courant moyen offrent généralement une plus grande flexibilité en termes d'énergie, de dose et d'angle d'implantation. Les implanteurs à haute énergie sont destinés aux procédés nécessitant une gamme d'énergie plus étendue et des profils d'implantation plus profonds. Les performances finales dépendent de la source d'ions, de la ligne de faisceau, de la station terminale et de la configuration de la machine.
Les informations de départ utiles comprennent le fabricant et le modèle, la plateforme de production actuelle, la taille et le matériau de la plaquette, l'espèce d'ion cible, la plage d'énergie et de dose requise, les exigences de température d'implantation, le format de manipulation de la plaquette, les exigences d'angle ou d'uniformité du faisceau et l'objectif de remplacement ou d'expansion de capacité.
Oui. Les systèmes appartenant à la même famille de plateformes peuvent différer au niveau de la source d'ions, de la ligne de faisceau, de la gamme d'énergie, de la station expérimentale, du traitement des plaquettes, des commandes, du logiciel et des équipements auxiliaires. Deux machines portant des noms de modèles similaires doivent donc être examinées individuellement.
L'examen doit comparer les espèces d'ions, la fenêtre d'énergie et de dose, les exigences de contrôle du faisceau et de l'angle, la taille et le format de manipulation des plaquettes, la configuration de la station terminale, la charge électrique de l'installation, les exigences en matière de refroidissement, de gaz et d'échappement, l'environnement du système de contrôle, les équipements de soutien, le débit prévu et les conditions de maintenance.
Oui. Veuillez nous indiquer le fabricant, le modèle, la taille de la plaquette, la plateforme de production actuelle ou les exigences d'implantation visées. Nous pourrons ainsi examiner les équipements entrants, les informations disponibles sur le marché et les solutions alternatives potentielles pour une évaluation plus approfondie. La disponibilité et la portée finale dépendent du système spécifique identifié.
Commencez par nous fournir un modèle, une plaque signalétique, une photo de la machine ou une description de l'implant cible. Nous pouvons examiner l'orientation de l'équipement, vérifier sa disponibilité et vous aider à évaluer les critères de qualification avant l'achat.