Wij leveren gebruikte halfgeleider-ionenimplantatiemachines voor vervanging, capaciteitsuitbreiding en volwassen front-end waferprocessen. We hebben machines op voorraad en helpen kopers bij de beoordeling van implantatieplatformen voor hoge, middelhoge, hoge energie en speciale toepassingen.
Of u nu een verouderd apparaat vervangt, de productiecapaciteit uitbreidt of op zoek bent naar een specifiek OEM-platform, wij kunnen u helpen bij het beoordelen van de apparatuurrichting, de configuratie van de ionenbron en de bundellijn, de waferverwerking en de leveringsomvang.
Stuur de fabrikant, het model, de wafergrootte of de beoogde implantaatvereisten door, zodat we de geschikte apparatuur, procescompatibiliteit en de benodigde faciliteiten voor de fabriek kunnen beoordelen.
Bekijk ons actuele aanbod van gebruikte ionenimplantatiesystemen voor de productie van halfgeleiderwafels. Beschikbare platforms en configuraties veranderen regelmatig, dus de ionenbron, bundellijn, eindstation, wafelhandling, besturingssysteem en ondersteunende apparatuur moeten vóór aankoop worden gecontroleerd aan de hand van de specifieke machine.
Als het gewenste platform niet in de huidige lijst staat, kunt u de fabrikant, het model, de wafergrootte, het huidige productieplatform of de beoogde implantaatvereisten doorgeven. We kunnen de binnenkomende apparatuur en de op aanvraag beschikbare inkoopopties beoordelen.
Bij de keuze voor een ionenimplantatieapparaat begint het met het vereiste procesvenster, niet alleen met de naam van het apparaat. Het beoogde ion, de energie, de dosis, de wafercondities en de procesdoelen moeten de zoektocht bepalen.
Het systeem genereert ionen, versnelt en scheidt ze op basis van massa, regelt de bundel en richt of scant deze over de wafer. Verschillende platforms voeren deze sequentie op verschillende manieren uit.
| Werkelijke procesbehoefte | Relevante apparatuurrichtlijnen | Wat moet nog worden beoordeeld? |
|---|---|---|
| Productie met hoge dosis of hoge bundelstroom | Hoge stroomsterkte | Ionsoort, energiewindow, dosisbereik, bundelstroom, wafertemperatuur en doorvoerdoel |
| Breder procesaanbod en operationele flexibiliteit | Middenstroom / Flexibel implantaat | Energievenster, dosisregeling, implantatiehoek, bundelopstelling en waferplatform |
| Diepere implantaatprofielen | Hoge energie | Bruikbaar energiebereik, bundellijnconfiguratie, ionensoort en doelproces |
| SiC, hoge temperatuur- of specifieke implantatieprocessen | Specialiteit / Hittebestendig implantaat | Wafermateriaal, temperatuurregeling, ionenbron, eindstation en daadwerkelijke machineconfiguratie |
Een ionenimplantatiesysteem combineert systemen voor hoogspanning, hoogvacuüm, een bundellijn, gas en waferverwerking. Deze vijf controles helpen bepalen of een gebruikt platform verder onderzoek waard is.
Vereiste ionensoort, energiebereik, dosisbereik, bundelstroomvereisten, type ionenbron en compatibele bundellijnconfiguratie.
Vermijd het ontvangen van een apparaat dat niet het vereiste ionen-, energie- of dosisbereik kan bestrijken.
Dosisuniformiteit, controle van de implantatiehoek, bundelstabiliteit, wafertemperatuurbeheer en beschikbare gegevens over deeltjes, verontreiniging en onderhoud.
Vermijd een systeem dat wel werkt, maar niet voldoet aan de vereiste uniformiteit, hoekregeling of vervuilingslimieten.
Mogelijkheid tot 150 mm, 200 mm of 300 mm wafers, wafermateriaal en -dikte, cassette- of FOUP-formaat, EFEM, eindstation en verwerking van enkele wafers of batches.
Koop geen geschikt implantaatplatform waarvan de wafergrootte of het hanteringssysteem niet aansluit op de bestaande productielijn.
Informatie over de elektrische belasting van de installatie, koeling, vacuüm, toevoer van dopinggas, uitlaatgassen en emissiebeheersing, vergrendelingen, afmetingen, gewicht en hoogspanningssysteem.
Voorkom dat u de machine ter plaatse brengt om er vervolgens achter te komen dat de beschikbare stroomvoorziening, koeling, afvoer of gasbehandeling niet toereikend is.
Verwachte doorvoer, bundelconfiguratie, conditie en onderhoudshistorie van de ionenbron, vacuümcomponenten, hoogspanningsassemblages, besturingselementen en bekende onderdelenvereisten.
Vermijd een tool die weliswaar geschikt is voor het proces, maar die leidt tot overmatige stilstand, onderhoudslast of productiekosten.
Stuur het model, het huidige platform, de ionensoort, de wafergrootte, het beoogde energie- of dosisbereik en de informatie over de beschikbare apparatuur.
Het handhaven van een vastgestelde procesrichting op een vertrouwd platform kan de omvang van receptoverdracht en herkwalificatie beperken.
Wanneer een geïnstalleerd systeem verouderd raakt of het oorspronkelijke platform niet langer gemakkelijk als nieuwe apparatuur verkrijgbaar is, kan een compatibel gebruikt systeem helpen om een volwassen productielijn draaiende te houden en tegelijkertijd de initiële investering te verlagen.
Een vergelijkbaar platform reproduceert niet automatisch het bestaande proces. De uiteindelijke compatibiliteit hangt nog steeds af van de daadwerkelijke ionenbron, bundellijn, eindstation, besturingselementen, waferhandling en ondersteunende apparatuur die bij de machine zijn inbegrepen.
Kies voor hetzelfde platform of een ander geschikt systeem wanneer nieuwe apparatuur niet langer praktisch is voor een bestaand proces.
Voeg een compatibel systeem toe om de productiegroei te ondersteunen, terwijl de implantaattechnologie die al in de productlijn wordt gebruikt, behouden blijft.
Beamline-assemblages, eindstations, wafer-handlingmodules of ondersteunende componenten kunnen samen met het hoofdaanvraagformulier voor de apparatuur worden beoordeeld wanneer er voldoende model- en configuratiegegevens beschikbaar zijn.
Ionimplantatieapparaten bevatten hoogspannings-, vacuüm-, bundellijn- en waferverwerkingssystemen die zorgvuldige behandeling vereisen vóór verzending, tijdens transport en na aankomst. Wij helpen u de leveringsomvang en ondersteuningsrichting te verduidelijken op basis van het specifieke platform en de projectomstandigheden.
Installatie op locatie, procesontwikkeling en langdurig onderhoud zijn standaard niet inbegrepen. Dergelijke werkzaamheden dienen te worden gespecificeerd in de definitieve offerte of serviceomschrijving.
Ondersteuning aanvragen voor het Ion Implanter-systeemDeze vragen hebben betrekking op de belangrijkste kwesties waarmee kopers te maken krijgen bij de beoordeling van gebruikte halfgeleider-ionenimplantatieapparatuur.
Implantatieapparaten met hoge stroomsterkte worden over het algemeen gebruikt waar een hoge bundelstroom en een hogere dosisproductie belangrijk zijn, vaak binnen lagere tot middelhoge energiebereiken. Systemen met een gemiddelde stroomsterkte bieden doorgaans meer flexibiliteit wat betreft energie, dosis en implantatiehoek. Implantatieapparaten met hoge energie zijn bedoeld voor processen die een hoger energiebereik en diepere implantatieprofielen vereisen. De uiteindelijke mogelijkheden zijn nog steeds afhankelijk van de ionenbron, de bundellijn, het eindstation en de daadwerkelijke machineconfiguratie.
Nuttige startinformatie omvat de fabrikant en het model, het huidige productieplatform, de wafergrootte en het materiaal, de beoogde ionensoort, het vereiste energie- en dosisbereik, de vereisten voor de implantatietemperatuur, het waferverwerkingsformaat, de vereisten voor de bundelhoek of uniformiteit, en het doel van de vervanging of capaciteitsuitbreiding.
Ja. Systemen uit dezelfde platformfamilie kunnen verschillen in ionenbron, bundellijn, energiebereik, eindstation, waferverwerking, besturing, software en ondersteunende apparatuur. Twee machines met vergelijkbare modelnamen moeten daarom afzonderlijk worden beoordeeld.
De evaluatie moet de ionensoort, het energie- en dosisbereik, de eisen aan de bundel- en hoekregeling, de wafergrootte en -verwerkingsmethode, de configuratie van het eindstation, de elektrische belasting van de installatie, de koelings-, gas- en afvoereisen, de omgeving van het besturingssysteem, de ondersteunende apparatuur, de verwachte doorvoer en de onderhoudsomstandigheden vergelijken.
Ja. Stuur ons de fabrikant, het model, de wafergrootte, het huidige productieplatform of de beoogde implantaatvereisten. We kunnen de binnenkomende apparatuur, beschikbare marktinformatie en potentiële alternatieven beoordelen voor verdere evaluatie. De beschikbaarheid en de uiteindelijke omvang zijn afhankelijk van het specifieke systeem dat wordt geïdentificeerd.
Begin met een model, typeplaatje, foto van het apparaat of de gewenste implantaatvereisten. We kunnen de specificaties van de apparatuur bekijken, de actuele beschikbaarheid controleren en helpen bij het beoordelen van de kwalificatiecriteria vóór de aankoop.