Мы предлагаем бывшие в употреблении полупроводниковые ионные имплантаторы для замены, расширения производственных мощностей и отлаженных технологических процессов обработки кремниевых пластин. Мы поставляем на склад и помогаем покупателям оценить платформы для имплантации с высокими, средними, высокими энергетическими токами, а также специализированные платформы.
Независимо от того, заменяете ли вы устаревшее оборудование, расширяете производственные мощности или ищете конкретную OEM-платформу, мы можем помочь вам оценить направление развития оборудования, конфигурацию ионного источника и линии пучка, обработку пластин и объем поставок.
Для начала проверки соответствия оборудования, технологической совместимости и требований к производственным мощностям отправьте информацию о производителе, модели, размере пластины или требованиях к имплантируемому мишени.
Ознакомьтесь с нашим текущим ассортиментом бывших в употреблении систем ионной имплантации для производства полупроводниковых пластин. Доступные платформы и конфигурации регулярно меняются, поэтому перед покупкой необходимо убедиться в соответствии источника ионов, линии пучка, конечной станции, системы обработки пластин, системы управления и вспомогательного оборудования конкретной модели установки.
Если требуемая платформа отсутствует в текущем списке, укажите производителя, модель, размер пластины, текущую производственную платформу или целевые требования к имплантации. Мы можем рассмотреть поступающее оборудование и варианты закупок по запросу.
Выбор ионного имплантатора начинается с определения требуемого технологического окна, а не только названия оборудования. Поиск должен основываться на целевых ионах, энергии, дозе, условиях обработки пластины и целях процесса.
Система генерирует ионы, ускоряет и разделяет их по массе, управляет пучком и направляет или сканирует его по поверхности пластины. Различные платформы обрабатывают эту последовательность действий по-разному.
| Фактическая потребность процесса | Направление соответствующего оборудования | Что еще нуждается в пересмотре |
|---|---|---|
| Производство высоких доз или высоких токов пучка | Высокий ток | Виды ионов, энергетический диапазон, диапазон доз, ток пучка, температура подложки и целевая производительность. |
| Более широкий диапазон технологических процессов и повышенная гибкость в эксплуатации. | Имплантация среднего тока / гибкая имплантация | Энергетический диапазон, контроль дозы, угол имплантации, настройка пучка и платформа пластины. |
| Более глубокие профили имплантатов | Высокая энергия | Диапазон используемой энергии, конфигурация линии пучка, виды ионов и целевой процесс |
| SiC, высокотемпературные или специальные процессы имплантации | Специализированные / Высокотемпературные имплантаты | Материал пластины, контроль температуры, источник ионов, конечная станция и фактическая конфигурация оборудования. |
Ионный имплантатор объединяет в себе системы высокого напряжения, высокого вакуума, пучка, газа и обработки пластин. Эти пять проверок помогают определить, стоит ли проводить дальнейшую оценку бывшей в употреблении платформы.
Требуемые виды ионов, диапазон энергии, диапазон доз, требования к току пучка, тип ионного источника и совместимая конфигурация линии пучка.
Избегайте приобретения аппарата, который не может обеспечить необходимый диапазон ионов, энергии или дозы.
Равномерность дозы, контроль угла имплантации, стабильность пучка, управление температурой пластины, а также наличие записей о частицах, загрязнениях и техническом обслуживании.
Избегайте систем, которые работают, но не могут обеспечить требуемую равномерность, контроль угла или пределы загрязнения.
Возможность обработки пластин размером 150 мм, 200 мм или 300 мм, тип и толщина пластин, формат кассеты или FOUP, EFEM, конечная станция, а также обработка отдельных пластин или партий.
Избегайте приобретения подходящей платформы для имплантации, размер пластины или система обработки которой не позволяют подключиться к существующей линии.
Информация об электрической нагрузке объекта, охлаждении, вакууме, подаче легирующего газа, вытяжке и системах очистки, блокировках, габаритах, весе и высоковольтных системах.
Не допускайте ситуации, когда привоз оборудования на объект может привести к тому, что имеющиеся условия электропитания, охлаждения, вытяжки или газоснабжения окажутся недостаточными.
Ожидаемая производительность, конфигурация пучка, состояние ионного источника и история технического обслуживания, вакуумные компоненты, высоковольтные узлы, системы управления и известные требования к компонентам.
Избегайте использования инструмента, который подходит для процесса, но приводит к чрезмерным простоям, увеличению затрат на техническое обслуживание или росту производственных затрат.
Укажите модель, текущую платформу, тип ионов, размер пластины, целевой диапазон энергии или дозы, а также информацию о доступном оборудовании.
Сохранение установленного технологического процесса на знакомой платформе может сократить объем переноса рецептур и повторной аттестации.
Когда установленная система устаревает или исходная платформа больше недоступна в качестве нового оборудования, совместимая бывшая в употреблении система может помочь поддерживать работоспособность зрелой производственной линии, одновременно снижая первоначальные капиталовложения.
Аналогичная платформа не гарантирует автоматического воспроизведения существующего процесса. Окончательная совместимость по-прежнему зависит от фактического источника ионов, линии пучка, конечной станции, системы управления, оборудования для обработки пластин и вспомогательного оборудования, входящего в состав установки.
Если использование нового оборудования для отлаженного процесса становится нецелесообразным, следует переходить на использование аналогичного семейства платформ или другой подходящей системы.
Добавьте совместимую систему для поддержки роста производства, сохранив при этом технологию имплантации, уже используемую на линии.
При наличии достаточной информации о модели и конфигурации, узлы пучка, концевые станции, модули обработки пластин или вспомогательные компоненты могут быть рассмотрены вместе с запросом на основное оборудование.
Ионные имплантаторы включают в себя высоковольтные, вакуумные, канальные и технологические системы, а также системы для работы с пластинами, требующие бережного обращения до отгрузки, во время транспортировки и после прибытия. Мы помогаем уточнить объем поставки и поддерживаем направление работ в соответствии с фактическими условиями платформы и проекта.
Монтаж на месте, разработка технологических процессов и долгосрочное техническое обслуживание по умолчанию не включены в стоимость. Любые подобные работы должны быть указаны в окончательном предложении или объеме услуг.
Запрос на поддержку системы ионного имплантатораЭти вопросы охватывают основные проблемы, с которыми сталкиваются покупатели при оценке подержанного оборудования для ионной имплантации полупроводников.
Имплантаторы с высоким током обычно используются там, где важны высокий ток пучка и более высокая доза облучения, часто в диапазонах низких и средних энергий. Системы со средним током, как правило, обеспечивают большую гибкость в отношении энергии, дозы и угла имплантации. Имплантаторы с высокой энергией предназначены для процессов, требующих более высокого диапазона энергий и более глубоких профилей имплантации. Окончательные возможности по-прежнему зависят от источника ионов, линии пучка, конечной станции и фактической конфигурации установки.
Полезная исходная информация включает в себя производителя и модель, текущую производственную платформу, размер и материал пластины, тип целевых ионов, требуемый диапазон энергии и дозы, требования к температуре имплантации, формат обработки пластин, требования к углу пучка или однородности, а также цель замены или расширения мощностей.
Да. Системы одного и того же семейства платформ могут отличаться источником ионов, линией пучка, диапазоном энергии, конечной станцией, системой обработки пластин, системами управления, программным обеспечением и вспомогательным оборудованием. Поэтому две машины со схожими названиями моделей следует рассматривать отдельно.
В ходе анализа следует сравнить виды ионов, диапазон энергии и дозы, требования к управлению пучком и углом, размер пластин и формат обработки, конфигурацию конечной станции, электрическую нагрузку установки, требования к охлаждению, газу и вытяжке, условия работы системы управления, вспомогательное оборудование, ожидаемую производительность и условия технического обслуживания.
Да. Укажите производителя, модель, размер пластины, текущую производственную платформу или целевые требования к имплантации. Мы можем проанализировать поступающее оборудование, имеющуюся информацию о рынке и потенциальные альтернативы для дальнейшей оценки. Доступность и окончательный объем работ зависят от конкретной выбранной системы.
Начните с модели, заводской таблички, фотографии оборудования или требований к целевому имплантату. Мы можем проанализировать направление развития оборудования, проверить наличие на складе и помочь оценить этапы квалификации перед покупкой.