RUMAH > Produk > Peralatan Fabrik Wafer Bahagian Hadapan > Mesin Litografi >

Stepper Litografi Canon FPA-3000i4 i-Line Terpakai

Stepper litografi i-line Canon FPA-3000i4 terpakai dengan resolusi 0.35 μm, pengendalian wafer 8 inci, retikel 6 inci dan pemuat wafer Type6-L.

Used Canon FPA-3000i4 i-Line Lithography Stepper IMEJ PERALATAN
Semakan Konfigurasi Model dan pilihan yang dipasang
Bekalan Baru / Terpakai Tertakluk kepada ketersediaan projek
Penghantaran Global Penilaian berasaskan destinasi
RFQ Teknikal Pemadanan pakej dan proses

Canon FPA-3000i4 ialah stepper i-line terpakai dalam kategori semikonduktor mesin litografi, direka bentuk untuk pendedahan wafer dan pemindahan corak yang tepat. Ia menggunakan pencahayaan i-line 365 nm dan memberikan resolusi kira-kira 0.35 μm.

Sistem yang tersedia ini dikonfigurasikan untuk wafer SEMI 8 inci dengan orientasi rata. Ia termasuk pemuat wafer Type6-L, penukar retikel standard Canon dan ruang persekitaran CD-80.

Canon FPA-3000i4 365nm semiconductor wafer stepper

Spesifikasi Canon FPA-3000i4

PengilangKanun
ModelFPA-3000i4
Jenis PeralatanStepper Litografi i-Line
Panjang Gelombang PendedahanTalian i-365 nm
Resolusi0.35 µm
Nisbah Pengurangan Unjuran5:1
Saiz WaferWafer SEMI 8 inci dengan orientasi rata
Pemuat WaferJENIS 6-L
Saiz Retikel6 inci
Penukar RetikelJenis Standard Canon
Jenis KebukCD-80
KeadaanPeralatan Semikonduktor Terpakai
KetersediaanTertakluk kepada stok semasa dan pemeriksaan

Ciri-ciri Utama

  • Platform fotolitografi Canon i-line

  • Panjang gelombang pendedahan 365 nm

  • Resolusi 0.35 μm

  • Nisbah pengurangan unjuran 5:1

  • Dikonfigurasikan untuk wafer semikonduktor 8 inci

  • Sokongan retikel 6 inci

  • Pemuat wafer automatik TYPE6-L

  • Kebuk alam sekitar CD-80

Aplikasi Lazim

Canon FPA-3000i4 yang digunakan boleh dipertimbangkan untuk fabrikasi wafer semikonduktor, pengeluaran MEMS, pemprosesan semikonduktor sebatian, pembuatan peranti kuasa, pengeluaran sensor dan pembangunan proses fotolitografi.

Sistem pendedahan i-line 365 nm dan resolusi 0.35 μm menjadikannya sesuai untuk proses dan aplikasi semikonduktor matang yang tidak memerlukan litografi ultraviolet dalam yang canggih.

Canon FPA-3000i4 Type6-L wafer loader

Keadaan Peralatan Terpakai

Keadaan operasi yang tepat, pilihan yang dipasang dan kelengkapan Canon FPA-3000i4 ini perlu disahkan sebelum pembelian. Maklumat yang tersedia mungkin termasuk gambar peralatan, nombor siri, lokasi semasa, status operasi, rekod pemeriksaan dan aksesori yang disertakan.

Pemeriksaan peralatan, pembongkaran, pembungkusan profesional, pengangkutan antarabangsa dan penyelarasan pemasangan boleh dibincangkan mengikut keperluan destinasi dan projek.

Minta Maklumat Canon FPA-3000i4

Hubungi kami untuk ketersediaan semasa, foto peralatan, butiran konfigurasi dan sebut harga untuk stepper litografi i-line Canon FPA-3000i4 terpakai ini.

Sila berikan saiz wafer yang diperlukan, proses sasaran, negara destinasi dan jadual penghantaran yang dijangkakan semasa menghantar pertanyaan.

Used Canon FPA-3000i4 i-line lithography stepper

Soalan Lazim

Panjang gelombang pendedahan apakah yang digunakan oleh Canon FPA-3000i4?

Canon FPA-3000i4 ialah stepper litografi i-line yang menggunakan panjang gelombang pendedahan 365 nm.

Apakah resolusi Canon FPA-3000i4?

Resolusi yang ditentukan adalah lebih kurang 0.35 μm, bergantung pada proses, rintangan, retikel dan keadaan peralatan semasa.

Apakah saiz wafer yang disokong oleh mesin ini?

Sistem khusus ini dikonfigurasikan untuk wafer SEMI 8 inci dengan orientasi rata.

Adakah mesin itu beroperasi pada masa ini?

Status operasi dan kelengkapan semasa hendaklah disahkan melalui pemeriksaan. Hubungi kami untuk rekod ujian yang tersedia, foto peralatan dan maklumat konfigurasi.