Canon FPA-3000i4 ialah stepper i-line terpakai dalam kategori semikonduktor mesin litografi, direka bentuk untuk pendedahan wafer dan pemindahan corak yang tepat. Ia menggunakan pencahayaan i-line 365 nm dan memberikan resolusi kira-kira 0.35 μm.
Sistem yang tersedia ini dikonfigurasikan untuk wafer SEMI 8 inci dengan orientasi rata. Ia termasuk pemuat wafer Type6-L, penukar retikel standard Canon dan ruang persekitaran CD-80.

Spesifikasi Canon FPA-3000i4
| Pengilang | Kanun |
|---|---|
| Model | FPA-3000i4 |
| Jenis Peralatan | Stepper Litografi i-Line |
| Panjang Gelombang Pendedahan | Talian i-365 nm |
| Resolusi | 0.35 µm |
| Nisbah Pengurangan Unjuran | 5:1 |
| Saiz Wafer | Wafer SEMI 8 inci dengan orientasi rata |
| Pemuat Wafer | JENIS 6-L |
| Saiz Retikel | 6 inci |
| Penukar Retikel | Jenis Standard Canon |
| Jenis Kebuk | CD-80 |
| Keadaan | Peralatan Semikonduktor Terpakai |
| Ketersediaan | Tertakluk kepada stok semasa dan pemeriksaan |
Ciri-ciri Utama
Platform fotolitografi Canon i-line
Panjang gelombang pendedahan 365 nm
Resolusi 0.35 μm
Nisbah pengurangan unjuran 5:1
Dikonfigurasikan untuk wafer semikonduktor 8 inci
Sokongan retikel 6 inci
Pemuat wafer automatik TYPE6-L
Kebuk alam sekitar CD-80
Aplikasi Lazim
Canon FPA-3000i4 yang digunakan boleh dipertimbangkan untuk fabrikasi wafer semikonduktor, pengeluaran MEMS, pemprosesan semikonduktor sebatian, pembuatan peranti kuasa, pengeluaran sensor dan pembangunan proses fotolitografi.
Sistem pendedahan i-line 365 nm dan resolusi 0.35 μm menjadikannya sesuai untuk proses dan aplikasi semikonduktor matang yang tidak memerlukan litografi ultraviolet dalam yang canggih.

Keadaan Peralatan Terpakai
Keadaan operasi yang tepat, pilihan yang dipasang dan kelengkapan Canon FPA-3000i4 ini perlu disahkan sebelum pembelian. Maklumat yang tersedia mungkin termasuk gambar peralatan, nombor siri, lokasi semasa, status operasi, rekod pemeriksaan dan aksesori yang disertakan.
Pemeriksaan peralatan, pembongkaran, pembungkusan profesional, pengangkutan antarabangsa dan penyelarasan pemasangan boleh dibincangkan mengikut keperluan destinasi dan projek.
Minta Maklumat Canon FPA-3000i4
Hubungi kami untuk ketersediaan semasa, foto peralatan, butiran konfigurasi dan sebut harga untuk stepper litografi i-line Canon FPA-3000i4 terpakai ini.
Sila berikan saiz wafer yang diperlukan, proses sasaran, negara destinasi dan jadual penghantaran yang dijangkakan semasa menghantar pertanyaan.

Soalan Lazim
Panjang gelombang pendedahan apakah yang digunakan oleh Canon FPA-3000i4?
Canon FPA-3000i4 ialah stepper litografi i-line yang menggunakan panjang gelombang pendedahan 365 nm.
Apakah resolusi Canon FPA-3000i4?
Resolusi yang ditentukan adalah lebih kurang 0.35 μm, bergantung pada proses, rintangan, retikel dan keadaan peralatan semasa.
Apakah saiz wafer yang disokong oleh mesin ini?
Sistem khusus ini dikonfigurasikan untuk wafer SEMI 8 inci dengan orientasi rata.
Adakah mesin itu beroperasi pada masa ini?
Status operasi dan kelengkapan semasa hendaklah disahkan melalui pemeriksaan. Hubungi kami untuk rekod ujian yang tersedia, foto peralatan dan maklumat konfigurasi.