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二手佳能 FPA-3000i4 i-Line 光刻步進機

二手佳能 FPA-3000i4 i 線光刻步進機,解析度為 0.35 μm,可處理 8 吋晶圓,配備 6 吋光罩和 Type6-L 晶圓裝載機。

Used Canon FPA-3000i4 i-Line Lithography Stepper 設備圖片
配置審查 型號和安裝選項
全新/二手供應 視項目情況而定
全球配送 基於目的地的評估
技術詢價 包裝和流程匹配

Canon FPA-3000i4 是一款二手半導體類 i 線步進式微影機。 光刻機專為晶圓曝光和精確圖案轉移而設計。它採用 365 nm i 線照明,分辨率約為 0.35 μm。

此系統適用於 8 吋 SEMI 晶圓,晶圓方向為平面。它包括一台 Type6-L 晶圓裝載機、一台佳能標準光罩更換器和一台 CD-80 環境試驗箱。

Canon FPA-3000i4 365nm semiconductor wafer stepper

佳能 FPA-3000i4 技術規格

製造商佳能
模型FPA-3000i4
設備類型i線光刻步進機
曝光波長365奈米i線
解決0.35微米
投影縮減率5:1
晶圓尺寸8吋SEMI晶圓,取向平整
晶圓裝載機6-L型
十字線尺寸6吋
十字線更換器佳能標準型
腔室類型CD-80
狀態二手半導體設備
可用性視當前庫存和檢驗情況而定

主要特點

  • 佳能i線光刻平台

  • 365 nm曝光波長

  • 0.35 μm分辨率

  • 5:1 投影縮減率

  • 適用於 8 吋半導體晶圓

  • 6吋十字線支撐

  • TYPE6-L型自動晶圓裝載機

  • CD-80環境艙

典型應用

二手佳能 FPA-3000i4 可用於半導體晶圓製造、MEMS 生產、化合物半導體加工、功率元件製造、感測器生產和光刻製程開發。

其 365 nm i 線曝光系統和 0.35 μm 解析度使其適用於成熟的半導體製程和不需要先進深紫外光刻的應用。

Canon FPA-3000i4 Type6-L wafer loader

二手設備狀況

在購買這台佳能 FPA-3000i4 之前,請務必確認其確切的運作狀況、已安裝的選購品以及配件是否齊全。可提供的資訊包括設備照片、序號、當前位置、運行狀態、檢查記錄以及隨附配件。

設備檢驗、拆卸、專業包裝、國際運輸和安裝協調可根據目的地和專案要求進行討論。

索取佳能 FPA-3000i4 信息

請聯絡我們以了解這台二手佳能 FPA-3000i4 i 線光刻步進機的當前供貨情況、設備照片、配置詳情和報價。

詢價時請提供您所需的晶圓尺寸、目標流程、目的地國家/地區和預計交貨時間。

Used Canon FPA-3000i4 i-line lithography stepper

常見問題解答

佳能 FPA-3000i4 使用的曝光波長是多少?

Canon FPA-3000i4 是一款採用 365 奈米曝光波長的 i 線光刻步進機。

佳能 FPA-3000i4 的解析度是多少?

規定的分辨率約為 0.35 μm,取決於製程、光阻、光罩和當前設備狀況。

這台機器支援哪種尺寸的晶圓?

系統專為 8 吋 SEMI 晶圓設計,晶圓方向為平面。

機器目前是否可以正常運作?

應透過檢查確認設備的目前運作狀態和完整性。請聯絡我們索取測試記錄、設備照片和配置資訊。