SAMCO AD-230LP ialah sistem pemendapan lapisan atom yang dipertingkatkan plasma kunci beban yang dibangunkan untuk pembentukan filem nipis yang tepat dan konformal. Ia secara berselang-seli memperkenalkan gas prekursor dan reaktan supaya pertumbuhan filem dikawal oleh tindak balas permukaan yang mengehadkan diri.
Sistem ini menggabungkan kawalan filem peringkat atom dengan sumber plasma berganding kapasitif. Proses yang diterbitkan secara tipikal termasuk filem nitrida seperti AlN dan SiN, serta filem oksida suhu rendah termasuk AlOx dan SiO2. Konfigurasi prekursor sebenar, keadaan sumber plasma dan resipi yang tersedia mesti disahkan untuk mesin yang digunakan secara individu.
Spesifikasi Utama SAMCO AD-230LP
| Pengilang | SAMCO |
|---|---|
| Model | AD-230LP |
| Jenis Peralatan | Sistem Pemendapan Lapisan Atom Plasma yang Dipertingkatkan dengan Kunci Beban |
| Teknologi Pemendapan | Pemendapan lapisan atom yang dipertingkatkan plasma |
| Kaedah Plasma | Plasma bergandingan kapasitif dalam reka bentuk platform yang diterbitkan |
| Pemuatan Wafer | Ruang kunci beban |
| Bahan Filem yang Diterbitkan | AlN, SiN, AlOx dan SiO2 |
| Kawalan Filem | Kawalan ketebalan peringkat lapisan atom melalui tindak balas permukaan berjujukan |
| Aplikasi Utama | Filem penebat, filem pasifasi dan salutan konformal struktur tiga dimensi |
| Keadaan | Digunakan peralatan semikonduktor |
| Ketersediaan | Tertakluk kepada stok semasa, pemeriksaan dan pengesahan konfigurasi |
Ciri-ciri Peralatan Utama
Reka bentuk kunci beban yang mengelakkan pembukaan ruang proses secara rutin ke atmosfera
Kawalan ketebalan filem peringkat lapisan atom
Pemendapan konformal pada struktur nisbah aspek tinggi
Plasma berganding kapasitif untuk pemprosesan ALD berbantukan plasma
Aliran gas yang dioptimumkan dan reka bentuk ruang padat untuk kitaran pembersihan yang lebih pendek
Sesuai untuk pembangunan filem nipis oksida dan nitrida
Aplikasi Lazim
AD-230LP boleh digunakan untuk membentuk lapisan penebat pintu, filem pasif peranti, salutan optik atau laser-facet dan filem konformal pada MEMS dan struktur tiga dimensi yang lain. Contoh bahan yang diterbitkan termasuk AlN, SiN, AlOx dan SiO2.
Keserasian sebenar bergantung pada sistem penghantaran prekursor yang dipasang, sumber plasma, bahan ruang, pemegang substrat, julat suhu proses dan resipi yang tersedia. Keupayaan bahan yang diterbitkan tidak boleh dianggap sebagai bukti bahawa mesin terpakai yang tersedia merangkumi perkakasan prekursor yang diperlukan.
Konfigurasi dan Pemeriksaan Peralatan Terpakai
Sebelum sebut harga, pelanggan harus mengesahkan nombor siri mesin, keadaan ruang proses, operasi kunci beban, penjana plasma, komponen yang sepadan, talian prekursor, julat MFC, injap, pam vakum, pemegang substrat dan perisian kawalan.
Bahan filem tepat yang sebelum ini diproses di dalam ruang juga harus dikaji semula kerana sejarah ruang dan pencemaran prekursor mungkin mempengaruhi sama ada sistem tersebut sesuai untuk proses ALD baharu.
Minta Maklumat SAMCO AD-230LP
Hubungi pasukan kami untuk menyemak ketersediaan semasa SAMCO AD-230LP terpakai. Sila berikan saiz substrat, filem sasaran, keperluan prekursor, julat ketebalan yang dijangkakan, negara destinasi dan jadual pemasangan anda.
Hubungi kami untuk mendapatkan gambar mesin semasa, konfigurasi prekursor yang dipasang, sejarah ruang, status pemeriksaan dan sebut harga.
Soalan Lazim
Adakah AD-230LP sistem ALD terma atau plasma?
AD-230LP ialah sistem ALD yang dipertingkatkan plasma. Platform yang diterbitkan ini menggunakan plasma berganding kapasitif untuk menyokong tindak balas permukaan berbantukan plasma.
Filem apa yang boleh didepositkan oleh AD-230LP?
Aplikasi yang diterbitkan termasuk AlN, SiN, AlOx dan SiO2. Mesin yang tersedia mesti mempunyai garisan prekursor, gas reaktan dan resipi yang berkelayakan untuk filem yang diperlukan.
Mengapakah sistem ini menggunakan ruang kunci beban?
Kunci beban membolehkan substrat dipindahkan tanpa membuka ruang proses terus ke atmosfera, menyokong keadaan pemendapan yang lebih bersih dan lebih boleh diulang.
Bolehkah AD-230LP menyaluti struktur tiga dimensi?
ALD sesuai untuk salutan konformal bagi struktur bernisbah aspek tinggi dan tiga dimensi. Liputan sebenar bergantung pada kimia bahan, keadaan proses dan geometri komponen.
