Il SAMCO AD-230LP è un sistema di deposizione di strati atomici potenziata al plasma con camera di carico, sviluppato per la formazione precisa e conforme di film sottili. Introduce alternativamente gas precursori e reagenti in modo che la crescita del film sia controllata da reazioni superficiali auto-limitanti.
Il sistema combina il controllo del film a livello atomico con una sorgente di plasma ad accoppiamento capacitivo. I processi tipici pubblicati includono film di nitruro come AlN e SiN, nonché film di ossido a bassa temperatura tra cui AlOx e SiO2. La configurazione effettiva del precursore, le condizioni della sorgente di plasma e le ricette disponibili devono essere verificate per la specifica macchina utilizzata.
Specifiche principali del modello SAMCO AD-230LP
| Produttore | SAMCO |
|---|---|
| Modello | AD-230LP |
| Tipo di apparecchiatura | Sistema di deposizione di strati atomici potenziata al plasma Load-Lock |
| Tecnologia di deposizione | Deposizione di strati atomici potenziata al plasma |
| Metodo al plasma | Plasma accoppiato capacitivamente nel progetto della piattaforma pubblicato |
| Caricamento dei wafer | camera di carico |
| Materiali cinematografici pubblicati | AlN, SiN, AlOx e SiO2 |
| Controllo della pellicola | Controllo dello spessore a livello di strato atomico tramite reazioni superficiali sequenziali |
| Applicazioni principali | Pellicole isolanti, pellicole di passivazione e rivestimento conforme di strutture tridimensionali |
| Condizione | Usato apparecchiature per semiconduttori |
| Disponibilità | Salvo disponibilità a magazzino, ispezione e conferma della configurazione. |
Caratteristiche principali dell'apparecchiatura
Design del sistema di bloccaggio del carico che evita l'apertura periodica della camera di processo all'atmosfera.
Controllo dello spessore del film a livello di strato atomico
Deposizione conforme su strutture ad alto rapporto d'aspetto
Plasma accoppiato capacitivamente per la lavorazione ALD assistita da plasma
Flusso di gas ottimizzato e design compatto della camera per cicli di spurgo più brevi.
Adatto allo sviluppo di film sottili di ossidi e nitruri
Applicazioni tipiche
Il materiale AD-230LP può essere utilizzato per formare strati isolanti di gate, pellicole di passivazione per dispositivi, rivestimenti ottici o per superfici laser e pellicole conformi su MEMS e altre strutture tridimensionali. Esempi di materiali pubblicati includono AlN, SiN, AlOx e SiO2.
La compatibilità effettiva dipende dal sistema di erogazione del precursore installato, dalla sorgente di plasma, dai materiali della camera, dal supporto del substrato, dall'intervallo di temperatura del processo e dalle ricette disponibili. La capacità di lavorazione dei materiali indicata in una pubblicazione non deve essere considerata una prova che la macchina usata disponibile includa l'hardware necessario per il precursore.
Configurazione e ispezione delle apparecchiature usate
Prima di richiedere un preventivo, i clienti devono confermare il numero di serie della macchina, le condizioni della camera di processo, il funzionamento del sistema di carico/scarico, il generatore di plasma, i componenti compatibili, le linee precursori, le gamme MFC, le valvole, le pompe per vuoto, il supporto del substrato e il software di controllo.
È inoltre necessario esaminare con precisione i materiali del film precedentemente processati nella camera, poiché la storia della camera e la contaminazione dei precursori possono influire sull'idoneità del sistema per un nuovo processo ALD.
Richiedi informazioni sul modello SAMCO AD-230LP
Contatta il nostro team per verificare la disponibilità attuale del SAMCO AD-230LP usato. Ti preghiamo di fornire le dimensioni del substrato, il tipo di pellicola da applicare, i requisiti del precursore, l'intervallo di spessore previsto, il paese di destinazione e il programma di installazione.
Contattateci per ricevere foto aggiornate della macchina, configurazione del precursore installato, storico della camera di combustione, stato delle ispezioni e preventivo.
Domande frequenti
Il sistema AD-230LP è un sistema ALD termico o al plasma?
L'AD-230LP è un sistema ALD potenziato al plasma. La piattaforma descritta utilizza un plasma accoppiato capacitivamente per supportare reazioni superficiali assistite dal plasma.
Quali pellicole può depositare l'AD-230LP?
Tra le applicazioni pubblicate figurano AlN, SiN, AlOx e SiO2. L'apparecchiatura disponibile deve essere dotata delle corrette linee di precursori, dei gas reagenti e di ricette qualificate per il film desiderato.
Perché il sistema utilizza una camera di carico?
Il sistema di bloccaggio del carico consente di trasferire i substrati senza aprire la camera di processo direttamente all'atmosfera, garantendo condizioni di deposizione più pulite e ripetibili.
Il sistema AD-230LP è in grado di rivestire strutture tridimensionali?
La tecnica ALD è adatta al rivestimento conforme di strutture tridimensionali e ad alto rapporto d'aspetto. La copertura effettiva dipende dalla composizione chimica del materiale, dalle condizioni di processo e dalla geometria del componente.
