ДОМ > Продукты > Оборудование для производства полупроводниковых пластин на начальном этапе > Оборудование для осаждения тонких пленок >

Плазменная система ALD SAMCO AD-230LP

Использовалась плазменная ALD-система SAMCO AD-230LP с шлюзовой камерой для конформного осаждения тонких пленок AlN, SiN, AlOx и SiO2 на полупроводниковые и MEMS-структуры.

SAMCO AD-230LP Plasma ALD System ИЗОБРАЖЕНИЕ ОБОРУДОВАНИЯ
Проверка конфигурации Модель и установленные опции
Новые/бывшие в употреблении поставки При условии наличия проекта.
Глобальная доставка Оценка на основе места назначения
Технический запрос предложений Соответствие упаковки и процесса

Система SAMCO AD-230LP представляет собой систему атомно-слоевого осаждения с плазменным усилением и шлюзовой камерой, разработанную для точного и конформного формирования тонких пленок. Она попеременно подает прекурсор и реагенты, благодаря чему рост пленки контролируется самоограничивающимися поверхностными реакциями.

Система сочетает в себе контроль качества пленки на атомном уровне с источником плазмы, связанным емкостной связью. Типичные опубликованные процессы включают получение нитридных пленок, таких как AlN и SiN, а также низкотемпературных оксидных пленок, включая AlOx и SiO2. Фактическую конфигурацию прекурсоров, условия работы источника плазмы и доступные рецепты необходимо подтвердить для конкретной используемой установки.

SAMCO AD-230LP plasma ALD system

Основные технические характеристики SAMCO AD-230LP

ПроизводительСАМКО
МодельAD-230LP
Тип оборудованияСистема плазменно-усиленного осаждения атомных слоев в шлюзовой камере
Технология осажденияПлазменно-усиленное осаждение атомных слоев
Плазменный методПлазма с емкостной связью в опубликованной конструкции платформы
Загрузка пластиныШлюзовая камера
Опубликованные киноматериалыAlN, SiN, AlOx и SiO2
Контроль пленкиКонтроль толщины на уровне атомных слоев посредством последовательных поверхностных реакций.
Основные приложенияИзоляционные пленки, пассивирующие пленки и конформные покрытия трехмерных структур
СостояниеИспользовал полупроводниковое оборудование
ДоступностьПри условии наличия товара на складе, проверки и подтверждения конфигурации.

Основные характеристики оборудования

  • Конструкция шлюзовой камеры позволяет избежать регулярного открытия технологической камеры для доступа атмосферы.

  • Контроль толщины пленки на уровне атомных слоев.

  • Конформное осаждение на структурах с высоким соотношением сторон

  • Плазма с емкостной связью для плазменно-ассистированной обработки ALD

  • Оптимизированный поток газа и компактная конструкция камеры обеспечивают более короткие циклы продувки.

  • Подходит для получения тонких пленок оксидов и нитридов.

Типичные области применения

Материал AD-230LP может использоваться для формирования затворных изоляционных слоев, пассивирующих пленок для устройств, покрытий для оптических или лазерных поверхностей, а также конформных пленок на МЭМС и других трехмерных структурах. В качестве примеров опубликованных материалов можно привести AlN, SiN, AlOx и SiO2.

Фактическая совместимость зависит от установленной системы подачи прекурсоров, источника плазмы, материалов камеры, держателя подложки, диапазона рабочих температур процесса и доступных рецептур. Опубликованные данные о возможностях использования материалов не следует рассматривать как доказательство того, что имеющаяся в наличии установка включает необходимое оборудование для получения прекурсоров.

Конфигурация и осмотр подержанного оборудования

Перед предоставлением коммерческого предложения заказчику следует подтвердить серийный номер оборудования, состояние технологической камеры, работу шлюзовой камеры, генератор плазмы, соответствующие компоненты, линии подачи прекурсоров, диапазоны МТЭ, клапаны, вакуумные насосы, держатель подложки и программное обеспечение управления.

Также следует проверить, какие именно пленочные материалы ранее обрабатывались в камере, поскольку история камеры и загрязнение прекурсорами могут повлиять на пригодность системы для нового процесса ALD.

Запросить информацию о SAMCO AD-230LP

Свяжитесь с нашей командой, чтобы уточнить наличие бывших в употреблении SAMCO AD-230LP. Пожалуйста, укажите размер подложки, целевую пленку, требования к прекурсорам, ожидаемый диапазон толщины, страну назначения и график установки.

Свяжитесь с нами, чтобы получить актуальные фотографии оборудования, информацию о конфигурации установленного прекурсора, историю работы камеры, статус проверки и коммерческое предложение.

Часто задаваемые вопросы

AD-230LP — это система ALD, работающая в термическом или плазменном режиме?

Система AD-230LP представляет собой систему ALD с плазменным усилением. В представленной платформе используется плазма с емкостной связью для поддержки поверхностных реакций, инициируемых плазмой.

Какие пленки может осаждать AD-230LP?

В число опубликованных областей применения входят AlN, SiN, AlOx и SiO2. Имеющееся оборудование должно включать в себя соответствующие линии подачи прекурсоров, реагентные газы и сертифицированные рецептуры для получения требуемой пленки.

Почему в системе используется шлюзовая камера?

Шлюз позволяет перемещать подложки, не открывая технологическую камеру напрямую в атмосферу, что обеспечивает более чистые и воспроизводимые условия осаждения.

Может ли AD-230LP покрывать трехмерные структуры?

Технология ALD подходит для нанесения конформных покрытий на структуры с высоким соотношением сторон и трехмерные конструкции. Фактическое покрытие зависит от химического состава материала, условий процесса и геометрии компонента.