Canon Anelva FC7100 ialah sistem pemendapan wap fizikal jenis kluster 300 mm yang dibangunkan untuk aplikasi get logam k tinggi dan aplikasi percikan semikonduktor termaju yang lain. Platform ini direka bentuk untuk pemendapan terkawal logam nipis dan filem reaktif.
Canon Anelva mengenal pasti FC7100 sebagai platform percikan pengeluaran yang menawarkan keseragaman filem peringkat atom, kawalan ketebalan yang tepat dan percikan reaktif yang stabil. Mesin terpakai yang disenaraikan dilaporkan mula beroperasi pada tahun 2011, tetapi kombinasi modul yang tepat dan keadaan semasa memerlukan pengesahan.
Spesifikasi Utama Canon Anelva FC7100
| Pengilang | Canon Anelva |
|---|---|
| Model | FC7100 |
| Jenis Peralatan | Sistem Percikan PVD Jenis Kluster |
| Saiz Wafer yang Disokong | Wafer 300 mm / 12 inci |
| Proses Utama | Pemendapan wap fizikal dan percikan reaktif |
| Permohonan Utama yang Diterbitkan | Pembentukan filem pintu logam tinggi-k |
| Modul Maksimum yang Dipasang | Sehingga lima modul dalam platform yang diterbitkan |
| Jenis Modul Boleh Dikonfigurasikan | Percikan, etsa, pengoksidaan dan pemanasan, bergantung pada konfigurasi |
| Senibina Sistem | Platform kluster |
| Tahun Perkhidmatan Tersenarai | 2011, mengikut halaman peralatan yang tersedia |
| Keadaan | Digunakan peralatan semikonduktor |
| Ketersediaan | Tertakluk kepada stok semasa, konfigurasi modul dan pengesahan pemeriksaan |
Ciri-ciri Peralatan Utama
Direka untuk wafer semikonduktor 300 mm
Konfigurasi kluster yang menyokong pelbagai modul proses
Sehingga lima modul yang dipasang dalam seni bina platform yang diterbitkan
Keseragaman filem peringkat atom dan kawalan ketebalan yang tepat
Percikan reaktif yang stabil dalam mod sasaran logam dan beracun
Modul pengukiran, pengoksidaan dan pemanasan pilihan
Aplikasi Lazim
FC7100 terutamanya dikaitkan dengan pemendapan get logam k tinggi untuk peranti logik. Canon Anelva juga menyenaraikan aplikasi dalam litar periferi dan pembuatan sensor imej CMOS.
Filem dan urutan proses yang tepat bergantung pada katod yang dipasang, bahan sasaran, susunan ruang, sistem gas reaktif dan modul sokongan. Keupayaan platform tidak boleh dianggap sebagai pengesahan bahawa setiap modul terdapat pada sistem yang digunakan.
Konfigurasi dan Pemeriksaan Peralatan Terpakai
Sebelum sebut harga, pelanggan harus mengesahkan nombor siri kerangka utama, bilangan dan jenis ruang proses, konfigurasi katod, bahan sasaran, bekalan kuasa RF atau DC, talian gas reaktif, pam vakum, robot pengendalian wafer, port beban dan perisian kawalan.
Sistem pintu logam k-tinggi mungkin mempunyai sejarah ruang khusus proses. Oleh itu, bahan-bahan terdahulu, pencemaran ruang, sasaran yang tinggal dan kit proses yang tersedia harus dikaji semula sebelum merancang aplikasi pemendapan baharu.
Minta Maklumat Canon Anelva FC7100
Hubungi pasukan kami untuk menyemak ketersediaan semasa Canon Anelva FC7100 terpakai. Sila berikan tindanan filem sasaran anda, saiz wafer, jujukan modul yang diperlukan, bahan sasaran, negara destinasi dan jadual pemasangan.
Hubungi kami untuk gambar peralatan semasa, senarai ruang, konfigurasi katod, status pemeriksaan dan sebut harga.
Soalan Lazim
Apakah saiz wafer yang diproses oleh FC7100?
Platform FC7100 yang diterbitkan direka bentuk untuk wafer semikonduktor 300 mm, atau 12 inci.
Apakah aplikasi utama FC7100?
Aplikasi utamanya yang diterbitkan adalah pemendapan percikan pintu logam k tinggi, walaupun konfigurasi ruang yang dipasang menentukan proses sebenar yang tersedia.
Berapa banyak modul proses yang boleh disokong oleh platform ini?
Canon Anelva menyenaraikan sokongan untuk sehingga lima modul yang dipasang. Nombor yang terdapat pada mesin terpakai mesti disahkan.
Adakah setiap FC7100 merangkumi modul pengoksidaan dan pengukiran?
Tidak. Pengukiran, pengoksidaan dan pemanasan adalah jenis modul yang boleh dikonfigurasikan. Kehadirannya hendaklah disahkan daripada senarai ruang dan gambar mesin.
