佳能Anelva FC7100是一款300毫米集群式物理氣相沉積系統，專為高介電常數金屬閘極和其他先進半導體濺鍍應用而開發。該平台旨在實現對薄金屬膜和反應膜的可控沉積。
佳能安耐瓦將FC7100定位為生產型濺鍍平台，可提供原子級薄膜均勻性、精確的厚度控制和穩定的反應濺鍍。據稱，這台二手設備於2011年投入使用，但其具體的模組組合和當前狀況尚需確認。
佳能 Anelva FC7100 主要規格
| 製造商 | 佳能阿內爾瓦 |
|---|---|
| 模型 | FC7100 |
| 設備類型 | 簇式PVD濺鍍系統 |
| 支援的晶圓尺寸 | 300毫米/12吋晶圓 |
| 初級過程 | 物理氣相沉積和反應濺射 |
| 主要已發布申請 | 高介電常數金屬閘極薄膜的形成 |
| 最大安裝模組數 | 已發布平台最多可包含五個模組 |
| 可配置模組類型 | 根據配置的不同，可進行濺鍍、蝕刻、氧化和加熱等製程。 |
| 系統架構 | 叢集平台 |
| 列出服務年限 | 根據可用設備頁面顯示，2011 年 |
| 狀態 | 用過的 半導體設備 |
| 可用性 | 視當前庫存、模組配置和檢驗確認情況而定 |
主要設備特性
專為 300 毫米半導體晶圓設計
支援多個處理模組的叢集配置
已發布的平台架構中最多可安裝五個模組
原子級薄膜均勻性和精確的厚度控制
金屬和中毒靶模態下的穩定反應濺射
可選的蝕刻、氧化和加熱模組
典型應用
FC7100 主要用於邏輯元件的高介電常數金屬閘極沉積。佳能安耐瓦公司還列出了其在外圍電路和 CMOS 影像感測器製造中的應用。
特定的薄膜種類和製程取決於所安裝的陰極、靶材、反應室結構、反應氣體系統和輔助模組。平台具備相應功能並不代表所用系統就具備所有模組。
二手設備配置和檢驗
報價前，客戶應確認主機序號、製程腔的數量和類型、陰極配置、靶材、射頻或直流電源、反應氣體管路、真空幫浦、晶圓處理機器人、裝載端口和控制軟體。
高介電常數金屬閘極系統可能具有特定製程的腔室歷史記錄。因此，在規劃新的沉積應用之前，應審查先前使用的材料、腔室污染情況、剩餘靶材以及可用的製程套件。
索取佳能 Anelva FC7100 信息
請聯絡我們的團隊查詢二手佳能Anelva FC7100的當前供貨情況。請提供您的目標薄膜堆疊、晶圓尺寸、所需模組順序、目標材料、目的地國家/地區和安裝計劃。
請聯絡我們索取當前設備照片、腔室清單、陰極配置、檢驗狀態和報價。
常見問題解答
FC7100 可加工多大尺寸的晶圓？
已發布的 FC7100 平台是為 300 毫米（或 12 吋）半導體晶圓設計的。
FC7100 的主要應用是什麼？
雖然其主要公開應用是高介電常數金屬閘極濺鍍，但安裝的腔室配置決定了實際可用的製程。
該平台最多可支援多少個流程模組？
佳能Anelva最多支援安裝五個模組。二手機器上實際安裝的模組數量必須確認。
每台 FC7100 都包含氧化和蝕刻模組嗎？
否。蝕刻、氧化和加熱是可配置的模組類型。應根據腔室清單和機器照片確認是否存在這些模組。
