Il Canon Anelva FC7100 è un sistema di deposizione fisica da fase vapore (PVD) a cluster da 300 mm sviluppato per applicazioni di sputtering di semiconduttori ad alta costante dielettrica (high-k) e altre applicazioni avanzate di sputtering. La piattaforma è progettata per la deposizione controllata di film sottili di metalli e materiali reattivi.
Canon Anelva identifica l'FC7100 come una piattaforma di sputtering per la produzione che offre uniformità del film a livello atomico, controllo preciso dello spessore e sputtering reattivo stabile. La macchina usata in questione risulta essere entrata in servizio nel 2011, ma la sua esatta combinazione di moduli e le sue condizioni attuali necessitano di conferma.
Specifiche principali della Canon Anelva FC7100
| Produttore | Canon Anelva |
|---|---|
| Modello | FC7100 |
| Tipo di apparecchiatura | Sistema di sputtering PVD a cluster |
| Dimensioni del wafer supportate | wafer da 300 mm / 12 pollici |
| Processo primario | Deposizione fisica da fase vapore e sputtering reattivo |
| Domanda di pubblicazione principale | Formazione di film con gate metallico ad alta k |
| Numero massimo di moduli installati | Fino a cinque moduli nella piattaforma pubblicata |
| Tipologie di moduli configurabili | Sputtering, incisione, ossidazione e riscaldamento, a seconda della configurazione |
| Architettura di sistema | Piattaforma cluster |
| Anno di servizio indicato | 2011, secondo la pagina delle attrezzature disponibili |
| Condizione | Usato apparecchiature per semiconduttori |
| Disponibilità | Salvo disponibilità di magazzino, configurazione del modulo e conferma di ispezione. |
Caratteristiche principali dell'apparecchiatura
Progettato per wafer di semiconduttori da 300 mm
Configurazione cluster che supporta più moduli di processo
Fino a cinque moduli installati nell'architettura della piattaforma pubblicata
Uniformità del film a livello atomico e controllo preciso dello spessore
Sputtering reattivo stabile in modalità metallo e bersaglio avvelenato
Moduli opzionali per incisione, ossidazione e riscaldamento
Applicazioni tipiche
La FC7100 è principalmente associata alla deposizione di gate metallici ad alta costante dielettrica per dispositivi logici. Canon Anelva elenca anche applicazioni nei circuiti periferici e nella produzione di sensori di immagine CMOS.
I film esatti e la sequenza del processo dipendono dai catodi installati, dai materiali target, dalla configurazione della camera, dal sistema di gas reattivo e dai moduli di supporto. La capacità di una piattaforma non deve essere considerata una conferma della presenza di ogni modulo nel sistema utilizzato.
Configurazione e ispezione delle apparecchiature usate
Prima di richiedere un preventivo, i clienti devono confermare il numero di serie del mainframe, il numero e il tipo di camere di processo, la configurazione del catodo, i materiali target, gli alimentatori RF o DC, le linee del gas reattivo, le pompe per il vuoto, il robot per la movimentazione dei wafer, le porte di carico e il software di controllo.
I sistemi metal-gate ad alta costante dielettrica (high-k) possono presentare una storia della camera specifica per il processo. Pertanto, prima di pianificare una nuova applicazione di deposizione, è opportuno esaminare i materiali precedenti, la contaminazione della camera, i target rimanenti e i kit di processo disponibili.
Richiesta di informazioni sulla Canon Anelva FC7100
Contatta il nostro team per verificare la disponibilità attuale della Canon Anelva FC7100 usata. Ti preghiamo di fornire le informazioni relative al tipo di pellicola desiderata, alle dimensioni del wafer, alla sequenza dei moduli richiesti, ai materiali di destinazione, al paese di destinazione e al programma di installazione.
Contattateci per ricevere foto aggiornate delle apparecchiature, elenco delle camere, configurazione del catodo, stato delle ispezioni e preventivo.
Domande frequenti
Quali dimensioni di wafer può elaborare la FC7100?
La piattaforma FC7100, di cui è stata pubblicata la documentazione, è progettata per wafer di semiconduttori da 300 mm, ovvero da 12 pollici.
Qual è l'applicazione principale dell'FC7100?
La sua principale applicazione pubblicata è la deposizione per sputtering con gate metallico ad alta costante dielettrica, sebbene la configurazione della camera installata determini i processi effettivamente disponibili.
Quanti moduli di processo può supportare la piattaforma?
Canon Anelva dichiara il supporto per un massimo di cinque moduli installati. Il numero di moduli presenti sulla macchina usata deve essere verificato.
Ogni FC7100 include moduli di ossidazione e incisione?
No. L'incisione, l'ossidazione e il riscaldamento sono tipi di moduli configurabili. La loro presenza deve essere verificata consultando l'elenco delle camere e le fotografie della macchina.
