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Système PVD Canon Anelva FC7100

Système PVD Canon Anelva FC7100 utilisé pour les procédés de pulvérisation cathodique réactive et à grille métallique à haute constante diélectrique de 300 mm, configurable avec jusqu'à cinq modules de traitement.

Canon Anelva FC7100 PVD System IMAGE DE L'ÉQUIPEMENT
Examen de la configuration Modèle et options installées
Fournitures neuves/d'occasion Sous réserve de la disponibilité du projet
Livraison mondiale Évaluation basée sur la destination
Demande de devis technique Correspondance des paquets et des processus

Le Canon Anelva FC7100 est un système de dépôt physique en phase vapeur (PVD) de type cluster de 300 mm, conçu pour les applications de pulvérisation cathodique de semi-conducteurs avancés, notamment pour les grilles métalliques à haute constante diélectrique (high-k). Cette plateforme permet le dépôt contrôlé de couches minces de métal et de films réactifs.

Canon Anelva décrit le FC7100 comme une plateforme de pulvérisation cathodique de production offrant une uniformité de film à l'échelle atomique, un contrôle précis de l'épaisseur et une pulvérisation réactive stable. La machine d'occasion proposée aurait été mise en service en 2011, mais sa configuration exacte et son état actuel restent à confirmer.

Canon Anelva FC7100 PVD sputtering system

Caractéristiques principales du Canon Anelva FC7100

FabricantCanon Anelva
ModèleFC7100
Type d'équipementSystème de pulvérisation PVD de type cluster
Taille de plaquette prise en chargeplaquettes de 300 mm / 12 pouces
Processus primaireDépôt physique en phase vapeur et pulvérisation cathodique réactive
Demande publiée principaleformation de film à grille métallique à haute constante diélectrique
Nombre maximal de modules installésJusqu'à cinq modules sur la plateforme publiée
Types de modules configurablesPulvérisation cathodique, gravure, oxydation et chauffage, selon la configuration
Architecture du systèmePlateforme de cluster
Année de service indiquée2011, selon la page sur l'équipement disponible
ConditionUtilisé équipement semi-conducteur
DisponibilitéSous réserve de disponibilité des stocks, de la configuration des modules et de la confirmation d'inspection

Principales caractéristiques de l'équipement

  • Conçu pour les plaquettes de semi-conducteurs de 300 mm

  • Configuration de cluster prenant en charge plusieurs modules de processus

  • Jusqu'à cinq modules installés dans l'architecture de plateforme publiée

  • Uniformité du film à l'échelle atomique et contrôle précis de l'épaisseur

  • Pulvérisation réactive stable en modes métal et cible empoisonnée

  • Modules optionnels de gravure, d'oxydation et de chauffage

Applications typiques

Le FC7100 est principalement utilisé pour le dépôt de couches métalliques à haute permittivité dans les dispositifs logiques. Canon Anelva mentionne également des applications dans les circuits périphériques et la fabrication de capteurs d'image CMOS.

Les films et la séquence de traitement exacts dépendent des cathodes installées, des matériaux cibles, de la configuration de la chambre, du système de gaz réactif et des modules de support. La compatibilité de la plateforme ne garantit pas la présence de tous les modules sur le système utilisé.

Canon Anelva FC7100 cluster process modules

Configuration et inspection du matériel d'occasion

Avant d'établir un devis, les clients doivent confirmer le numéro de série de l'ordinateur central, le nombre et le type de chambres de traitement, la configuration de la cathode, les matériaux cibles, les alimentations RF ou CC, les conduites de gaz réactifs, les pompes à vide, le robot de manipulation des plaquettes, les ports de chargement et le logiciel de contrôle.

Les systèmes à grille métallique à haute permittivité peuvent présenter des historiques de chambre spécifiques à chaque procédé. Il convient donc d'examiner les matériaux utilisés précédemment, la contamination de la chambre, les cibles restantes et les kits de traitement disponibles avant de planifier une nouvelle application de dépôt.

Demande d'informations sur le Canon Anelva FC7100

Contactez notre équipe pour vérifier la disponibilité actuelle de la Canon Anelva FC7100 d'occasion. Veuillez indiquer la structure de film cible, la taille de la plaquette, la séquence de modules requise, les matériaux cibles, le pays de destination et le calendrier d'installation.

Contactez-nous pour obtenir des photos de l'équipement actuel, la liste des chambres, la configuration des cathodes, l'état des inspections et un devis.

Foire aux questions

Quelle est la taille des plaquettes que traite le FC7100 ?

La plateforme FC7100 publiée est conçue pour des plaquettes de semi-conducteurs de 300 mm, soit 12 pouces.

Quelle est l'application principale du FC7100 ?

Son application principale publiée est le dépôt par pulvérisation cathodique à grille métallique à haute constante diélectrique, bien que la configuration de la chambre installée détermine les procédés réellement disponibles.

Combien de modules de traitement la plateforme peut-elle prendre en charge ?

Canon Anelva prend en charge jusqu'à cinq modules installés. Le nombre de modules présents sur la machine utilisée doit être vérifié.

Chaque FC7100 inclut-il des modules d'oxydation et de gravure ?

Non. La gravure, l'oxydation et le chauffage sont des modules configurables. Leur présence doit être vérifiée à partir de la liste des chambres et des photographies de la machine.