Besi Datacon 8800 CHAMEO ultra для субмикронной упаковки TCB-компонентов

Оцените возможности Besi Datacon 8800 CHAMEO ultra для субмикронного флип-чип-монтажа и термокомпрессионной сварки. Идеально подходит для кремниевой фотоники и гетерогенной интеграции. Запросите коммерческое предложение.

Он Беси Datacon 8800 CHAMEO ультра Это система сверхточной сварки с перевернутым расположением кристалла, разработанная для передовых применений в области корпусирования полупроводников, требующих субмикронной точности выравнивания и стабильности термокомпрессионной сварки.

Besi Datacon 8800 CHAMEO ultra for Sub-Micron TCB Packaging

Он используется в гетерогенной интеграции, кремниевой фотонике и производстве межсоединений высокой плотности, где традиционные инструменты для перевернутого чипа не могут обеспечить требуемую точность выравнивания или термическую стабильность.

Для чего используется CHAMEO ultra?

  • Субмикронное крепление кристалла с перевернутым чипом

  • Термокомпрессионная сварка (ТКС)

  • 2.5D / 3D гетерогенная интеграция

  • Сборка микроконтактных межсоединений с малым шагом

Основные области применения

  • Кремниевые фотонные модули

  • Упаковка чиплетов для ИИ/высокопроизводительных вычислений

  • Модули радиочастотного интерфейса 5G

  • Массивы VCSEL/фотодиодов

Технические особенности

  • Система выравнивания с субмикронным визуальным контролем

  • Локализованный термокомпрессионный нагрев

  • Управление силой сцепления с обратной связью

  • Совместимость с процессами с использованием флюса и без флюса

Интеграция технологических процессов

Нанесение контактных площадок на пластину → Нарезка → Нанесение флюса → Размещение микросхем методом Flip Chip → Склеивание TCB → Заполнение подложки → Отверждение → Тестирование

Конкурентное позиционирование

  • Более высокая точность, чем у стандартных эпоксидных клеев.

  • Более гибкие, чем специализированные линии для производства микросхем методом флип-чип в больших объемах.

  • Оптимизировано для производства современной упаковки с широким ассортиментом продукции.

Технические характеристики

ПараметрСпецификация
Точность размещения±0,5–1,0 мкм при 3σ
Тип склеиванияTCB / Массовая оплавка / Без флюса
Поддержка пластинДо 12 дюймов
Типы субстратовОрганический/керамический/промежуточный материал

Почему производители его используют

  • Повышает выход годной продукции в межсоединениях с малым шагом выводов.

  • Обеспечивает интеграцию чиплетных и гетерогенных систем.

  • Поддерживает оптическую + радиочастотную + логическую компоновку.

Часто задаваемые вопросы

Чем он отличается от стандартных клеев?

Это обеспечивает субмикронное выравнивание в сочетании со строгим контролем термокомпрессии, чего не могут достичь стандартные высокопроизводительные установки для нанесения эпоксидных смол или установки для массового оплавления.

Может ли он обеспечить бесфлюсовое соединение?

Да, при использовании системы с контролируемой атмосферой она поддерживает процессы бесфлюсового соединения, критически важные для оптических и чувствительных полупроводниковых устройств.

Краткое содержание

Система оптимизирована для передовой упаковки следующего поколения, где точность, терморегулирование и возможность гетерогенной интеграции имеют решающее значение.

Запрос на техническое задание или коммерческое предложение.

  • Лист конфигурации системы

  • Анализ совместимости процессов

  • Поддержка интеграции

Раздел «Контакты / Запросы»

Нужен индивидуальный заказ? Решение?

Наша инженерная команда готова помочь вам интегрировать DB-800 в вашу производственную линию.

Связаться с отделом продаж
Expanded View