Ang ASML XT 1250i ay isang 8-pulgada (200mm) KrF deep-ultraviolet (DUV) step-and-scan lithography system na inilunsad ng kompanyang Dutch na ASML. Ito ay eksaktong nakaposisyon para sa mga mature at mid-range volume production node na mula 180nm hanggang 120nm. Bilang kahalili sa naunang serye ng PAS, mayroon itong napakahalagang posisyon sa pangalawang merkado para sa 8-pulgadang kagamitan.Ang sumusunod ay isang komprehensibo at malalim na pagsusuri ng modelong ito:
1. Mga Pangunahing Teknikal na Espesipikasyon
Sistema ng Pinagmumulan ng Liwanag: Gumagamit ng 248nm wavelength na KrF (krypton fluoride) excimer laser (karaniwang ibinibigay ng Cymer o Light Machines); hindi tulad ng mga mercury lamp, ang sistemang ito ay nag-aalok ng mataas na konsentrasyon ng enerhiya.
Pagganap na Optikal: Ang projection objective ay may numerical aperture (NA) na humigit-kumulang 0.75–0.80, na nakakamit ng limiting resolution na 120nm. Ang laki ng exposure field ay 26mm x 33mm, na mas mahusay kaysa sa mga i-line na modelo.
Kahusayan sa Produksyon: Ang throughput ay mula 80 hanggang 100 wafer kada oras (WPH), depende sa partikular na layer ng proseso.
2. Mga Benepisyo ng Teknolohikal na Henerasyon at Sistema (Kung ikukumpara sa mas lumang serye ng PAS)
Pag-upgrade ng XT Platform: Kung ikukumpara sa lumang PAS 5500 series, ang XT 1250i ay nagtatampok ng makabuluhang pinahusay na stage rigidity at acceleration. Gumagamit ito ng advanced laser interferometer control, na nagreresulta sa mas mabilis na positioning response times.
Sistema ng Pag-align: Gamit ang napatunayang teknolohiyang ATHENA (Advanced THrough-the-Lens Enhanced Alignment) ng ASML, pinapanatili ng sistema ang matatag na katumpakan ng overlay sa loob ng ±25nm. Nag-aalok ito ng mataas na tolerance para sa mga pagkakaiba-iba sa mga materyales sa ibabaw ng wafer, na ginagawa itong partikular na angkop para sa mga kumplikadong proseso na nangangailangan ng multi-layer overlay.
Mga Mode ng Illumination: Sinusuportahan ang conventional, annular, at off-axis illumination (OAI), na epektibong nag-o-optimize sa lalim ng focus upang mapaunlakan ang topograpiya ng ibabaw ng wafer. Mahalagang "Three-Item Check" para sa Pagbili: Bago pirmahan ang kontrata, dapat mong hilingin at suriin ang: (1) Mga oras ng pagpapatakbo ng laser at mga talaan ng pagkonsumo ng gas (kung ang lukab ng laser ay dumaranas ng matinding pagkasira ng kahusayan, ang gastos sa pagpapalit ay humigit-kumulang isang-katlo ng presyo ng buong makina); (2) Ulat sa projection objective lens transmittance at wavefront inspection (ang mga nasirang patong ng lens ay hindi maaaring kumpunihin; ang buong barrel ng lens ay dapat palitan); at (3) Datos ng kompensasyon ng linearity ng laser interferometer (na tumutukoy sa katumpakan ng pagpoposisyon ng platform).
Napakahalaga ng sistema ng pagpapalamig: Ang mahinang paglabas ng init sa laser unit o sa sistema ng sirkulasyon ng pagpapalamig ng tubig (chiller) ay direktang nagdudulot ng mga pagbabago-bago sa enerhiya ng laser at nagti-trigger ng mga pagkabigo ng frequency mode-lock (na nagreresulta sa mga alarma na "Laser Timeout"). Sa ganitong mga kaso, huwag agad iulat ang isang depekto sa motherboard; sa halip, linisin muna ang filter ng sistema ng pagpapalamig at palitan ang coolant.
