ДОМ > Продукты > Оборудование для производства полупроводниковых пластин на начальном этапе > Литографическая машина >

Литографическая машина ASML XT 1250i

ASML XT 1250i — это система пошаговой литографии с использованием KrF-излучения для 8-дюймовых (200 мм) пластин, разработанная голландской компанией ASML.

ASML XT 1250i lithography machine ИЗОБРАЖЕНИЕ ОБОРУДОВАНИЯ
Проверка конфигурации Модель и установленные опции
Новые/бывшие в употреблении поставки При условии наличия проекта.
Глобальная доставка Оценка на основе места назначения
Технический запрос предложений Соответствие упаковки и процесса
11ASML XT 1250i — это 8-дюймовая (200 мм) система пошаговой литографии с использованием KrF-технологии глубокого ультрафиолетового (DUV) излучения, выпущенная голландской компанией ASML. Она точно соответствует требованиям зрелых и средних серийных технологических узлов в диапазоне от 180 нм до 120 нм. Являясь преемником более ранней серии PAS, она занимает очень важное место на вторичном рынке 8-дюймового оборудования.

Ниже представлен всесторонний и подробный анализ данной модели:

1. Основные технические характеристики

Система источника света: Использует эксимерный лазер на основе фторида криптона (KrF) с длиной волны 248 нм (обычно поставляется компаниями Cymer или Light Machines); в отличие от ртутных ламп, эта система обеспечивает высокую концентрацию энергии.

Оптические характеристики: Проекционный объектив имеет числовую апертуру (NA) приблизительно 0,75–0,80, обеспечивая предельное разрешение 120 нм. Размер поля экспозиции составляет 26 мм x 33 мм, что превосходит показатели моделей i-line.

Эффективность производства: производительность составляет от 80 до 100 пластин в час (WPH) в зависимости от конкретного технологического слоя.

2. Технологическое поколение и системные преимущества (по сравнению со старой серией PAS)

Модернизация платформы XT: По сравнению с предыдущей серией PAS 5500, модель XT 1250i отличается значительно улучшенной жесткостью платформы и ускорением. В ней используется усовершенствованное управление с помощью лазерного интерферометра, что приводит к более быстрому времени отклика при позиционировании.

Система выравнивания: Оснащенная проверенной технологией ATHENA (Advanced THrough-the-Lens Enhanced Alignment) от ASML, система обеспечивает стабильную точность совмещения в пределах ±25 нм. Она обладает высокой устойчивостью к вариациям материалов поверхности пластин, что делает ее особенно подходящей для сложных процессов, требующих многослойного совмещения.

Режимы освещения: Поддерживает обычное, кольцевое и внеосевое освещение (OAI), эффективно оптимизируя глубину резкости для учета топографии поверхности пластины. Важнейшая «трехступенчатая проверка» при закупке: Перед подписанием контракта необходимо запросить и проверить: (1) данные о часах работы лазера и расходе газа (если лазерный резонатор сильно деградирует, стоимость замены составит приблизительно одну треть от стоимости всей установки); (2) отчет о пропускании проекционного объектива и проверке волнового фронта (поврежденные покрытия линз не подлежат ремонту; необходимо заменить весь корпус линзы); и (3) данные компенсации линейности лазерного интерферометра (которые определяют точность позиционирования платформы).

Система охлаждения имеет решающее значение: плохое рассеивание тепла в лазерном блоке или системе водяного охлаждения (чиллере) напрямую вызывает колебания энергии лазера и приводит к сбоям синхронизации частоты (что вызывает срабатывание сигнализации «Тайм-аут лазера»). В таких случаях не следует сразу сообщать о неисправности материнской платы; вместо этого сначала очистите фильтр системы охлаждения и замените охлаждающую жидкость.