L'ASML XT 1250i est un système de lithographie par balayage KrF ultraviolet profond (DUV) de 8 pouces (200 mm) lancé par la société néerlandaise ASML. Il est parfaitement adapté aux nœuds de production en volume matures et de moyenne gamme, allant de 180 nm à 120 nm. Successeur de la série PAS, il occupe une place prépondérante sur le marché de l'occasion des équipements de 8 pouces.Vous trouverez ci-dessous une analyse complète et approfondie de ce modèle :
1. Spécifications techniques de base
Système de source lumineuse : utilise un laser excimère KrF (fluorure de krypton) d’une longueur d’onde de 248 nm (généralement fourni par Cymer ou Light Machines) ; contrairement aux lampes à mercure, ce système offre une concentration d’énergie élevée.
Performances optiques : L’objectif de projection possède une ouverture numérique (ON) d’environ 0,75 à 0,80, atteignant une résolution limite de 120 nm. La taille du champ d’exposition est de 26 mm x 33 mm, surpassant les modèles i-line.
Efficacité de production : Le débit varie de 80 à 100 plaquettes par heure (WPH), selon la couche de processus spécifique.
2. Génération technologique et avantages du système (par rapport à l'ancienne série PAS)
Mise à niveau de la plateforme XT : par rapport à la série PAS 5500 précédente, la XT 1250i offre une rigidité et une accélération de la platine nettement améliorées. Elle utilise un contrôle par interféromètre laser avancé, ce qui permet des temps de réponse de positionnement plus rapides.
Système d'alignement : Doté de la technologie éprouvée ATHENA (Advanced THrough-the-Lens Enhanced Alignment) d'ASML, ce système garantit une précision de superposition stable à ±25 nm près. Sa grande tolérance aux variations de matériaux de surface des plaquettes le rend particulièrement adapté aux procédés complexes nécessitant une superposition multicouche.
Modes d'éclairage : Prend en charge l'éclairage conventionnel, annulaire et hors axe (OAI), optimisant ainsi la profondeur de champ pour s'adapter à la topographie de surface de la plaquette. Trois points essentiels à vérifier avant l'achat : Avant la signature du contrat, vous devez demander et examiner : (1) les relevés des heures de fonctionnement du laser et de la consommation de gaz (en cas de forte dégradation de l'efficacité de la cavité laser, le coût de remplacement représente environ un tiers du prix total de la machine) ; (2) le rapport d'inspection de la transmittance et du front d'onde de l'objectif de projection (les revêtements de lentilles endommagés ne peuvent être réparés ; le barillet de lentilles doit être entièrement remplacé) ; et (3) les données de compensation de linéarité de l'interféromètre laser (qui déterminent la précision de positionnement de la plateforme).
Le système de refroidissement est essentiel : une mauvaise dissipation thermique au niveau de l’unité laser ou du circuit de refroidissement par eau (refroidisseur) provoque directement des fluctuations d’énergie laser et des défaillances du verrouillage de mode de fréquence (entraînant des alarmes « Délai d’attente du laser »). Dans ce cas, ne signalez pas immédiatement un défaut de la carte mère ; commencez par nettoyer le filtre du système de refroidissement et remplacez le liquide de refroidissement.
