ASML XT 1250i 是一款由荷蘭 ASML 公司推出的 8 吋（200 mm）KrF 深紫外線 (DUV) 步進掃描微影系統。它精準定位於 180 奈米至 120 奈米的成熟及中端量產節點。作為早期 PAS 系列的後續產品，它在 8 吋設備的二手市場中佔據著舉足輕重的地位。以下是對此模型的全面深入分析：
1. 核心技術規格
光源系統：採用 248nm 波長 KrF（氟化氪）準分子雷射（通常由 Cymer 或 Light Machines 提供）；與汞燈不同，該系統具有高能量集中性。
光學性能：投影物鏡的數值孔徑（NA）約為0.75–0.80，極限解析度為120nm。曝光視野尺寸為26mm x 33mm，優於i線型物鏡。
生產效率：根據特定製程層的不同，產能範圍為每小時 80 至 100 片晶圓 (WPH)。
2. 技術發展及系統優勢（與舊款 PAS 系列相比）
XT平台升級：與傳統PAS 5500系列相比，XT 1250i平台的剛性和加速度均顯著的提升。它採用先進的雷射干涉儀控制技術，從而實現了更快的定位響應速度。
對準系統：此系統配備了ASML成熟的ATHENA（先進透鏡增強對準）技術，可維持±25nm以內的穩定套刻精度。它對晶圓表面材料的變化具有很高的容忍度，因此特別適用於需要多層套刻的複雜製程。
照明模式：支援常規照明、環形照明和離軸照明 (OAI)，有效優化景深以適應晶圓表面形貌。採購必備「三項檢查」：簽訂合約前，您必須索取並審核以下文件：(1) 雷射器運行時間和氣體消耗記錄（如果雷射腔效率嚴重下降，更換成本約為整機價格的三分之一）；(2) 投影物鏡透射率和波前檢測報告（損壞的鏡片鍍膜無法修復，必須更換整個鏡筒）；以及線性 (3) 雷射定位
冷卻系統至關重要：雷射單元或水冷循環系統（冷卻器）散熱不良會直接導致雷射能量波動，並引發頻率鎖模故障（導致「雷射超時」警報）。在這種情況下，請勿立即報告主機板故障；而應先清潔冷卻系統過濾器並更換冷卻液。
