เตาเผาแบบกระจายความร้อนแนวนอน Thermco 5200
เครื่อง Thermco 5200 เป็นเตาเผาแบบแพร่กระจายความร้อนแนวนอนสำหรับกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ MEMS เซลล์แสงอาทิตย์ และวัสดุตั้งต้นที่เกี่ยวข้อง รายการสินค้าที่มีอยู่ระบุว่าอุปกรณ์นี้เหมาะสำหรับเวเฟอร์ที่มีเส้นผ่านศูนย์กลางสูงสุด 150 มม.
แพลตฟอร์ม 5200 สามารถกำหนดค่าได้ด้วยท่อกระบวนการอิสระสองถึงสี่ท่อ โดยแต่ละท่อสามารถกำหนดให้กับกระบวนการออกซิเดชัน การแพร่ การอบอ่อน หรือกระบวนการ LPCVD ที่เข้ากันได้ ขึ้นอยู่กับวัสดุของท่อที่ติดตั้ง ระบบก๊าซ และการกำหนดค่าไอเสีย
ข้อมูลจำเพาะหลักของ Thermco 5200
| ผู้ผลิต | ระบบเทอร์โมโค |
|---|---|
| แบบอย่าง | 5200 |
| ประเภทอุปกรณ์ | เตาเผาแบบกระจายความร้อนหลายท่อแนวนอน |
| ขนาดพื้นผิวสูงสุด | สูงสุด 150 มม. |
| การกำหนดค่าท่อแพลตฟอร์ม | ท่อส่งกระบวนการ 2-4 ท่อ ขึ้นอยู่กับระบบที่ติดตั้ง |
| เขตราบสูงสุด | สูงสุด 1,100 มม. |
| ช่วงการทำงานที่เผยแพร่ | 200–1,350 องศาเซลเซียส ขึ้นอยู่กับฮีตเตอร์และการกำหนดค่ากระบวนการ |
| โซนความร้อน | โซนเตาเผาที่ควบคุมแยกอิสระสามโซน |
| อัตราเร่งเสริม | เพิ่มอุณหภูมิได้สูงสุดถึง 25 องศาเซลเซียสต่อนาที ด้วยตัวเลือกการเพิ่มอุณหภูมิอย่างรวดเร็วที่เหมาะสม |
| อัตราการทำความเย็นเสริม | ลดอุณหภูมิได้สูงสุดถึง 20 องศาเซลเซียสต่อนาที ด้วยตัวเลือกการทำความเย็นเร็วที่เหมาะสม |
| การควบคุมกระบวนการ | ระบบควบคุมเตาเผา Thermco; ต้องตรวจสอบเวอร์ชันของตัวควบคุมที่ติดตั้ง |
| เงื่อนไข | ใช้แล้ว อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ |
| ความพร้อมใช้งาน | ขึ้นอยู่กับสต็อกสินค้าในปัจจุบัน การกำหนดค่าท่อ และการยืนยันการตรวจสอบ |
คุณสมบัติหลักของอุปกรณ์
แท่นเตาเผาแนวนอนรองรับแผ่นเวเฟอร์ขนาดสูงสุด 150 มม.
สถาปัตยกรรมระบบท่อสองถึงสี่ท่อที่สามารถปรับแต่งได้
โซนอุณหภูมิคงที่สูงสุด 1,100 มม.
โซนทำความร้อนที่ควบคุมแยกอิสระ 3 โซน
ท่อแต่ละท่อสามารถปรับแต่งให้เหมาะสมกับกระบวนการทางความร้อนที่แตกต่างกันได้
ใช้งานได้กับการโหลดแบบแมนนวล กึ่งอัตโนมัติ หรืออัตโนมัติตามการตั้งค่า
การใช้งานทั่วไป
การใช้งานที่ได้รับการเผยแพร่ของ Thermco 5200 ได้แก่ การออกซิเดชันแบบเปียกและแห้ง การแพร่กระจายของสารเจือปน การอบอ่อนด้วยก๊าซขึ้นรูป การขับเคลื่อนด้วยอุณหภูมิสูง และการบำบัดทางความร้อนอื่นๆ ท่อที่ได้รับการกำหนดค่าอย่างเหมาะสมอาจรองรับกระบวนการซิลิคอนไนไตรด์ โพลีซิลิคอน TEOS LTO หรือกระบวนการ LPCVD ที่เกี่ยวข้องได้ด้วย
ควรเลือกใช้เครื่องจักรที่มีอยู่สำหรับกระบวนการที่รองรับโดยท่อ ตู้แก๊ส ระบบแรงดัน และอุปกรณ์ระบายอากาศที่ติดตั้งไว้เท่านั้น ท่อต่างๆ ในเครื่องหลักเดียวกันอาจมีประวัติการใช้งานที่แตกต่างกันได้
การกำหนดค่าและการตรวจสอบอุปกรณ์มือสอง
ข้อกำหนดที่เผยแพร่ระบุถึงแพลตฟอร์ม 5200 ที่สามารถปรับแต่งได้ ระบบมือสองที่มีอยู่อาจมีท่อน้อยกว่าสี่ท่อ ประเภทฮีตเตอร์ที่แตกต่างกัน ระบบควบคุมรุ่นเก่า หรืออุปกรณ์ก๊าซและไอเสียเฉพาะกระบวนการ
ก่อนเสนอราคา ลูกค้าควรยืนยันจำนวนท่อที่ติดตั้ง ขนาดท่อ สภาพของเครื่องทำความร้อน ช่วงอุณหภูมิ วัสดุควอตซ์ เรือบรรจุเวเฟอร์ ระบบการโหลด แผงแก๊ส MFC ระบบควบคุมแรงดัน ปั๊ม ระบบบำบัดไอเสีย และรุ่นของตัวควบคุม
ขอข้อมูลเกี่ยวกับ Thermco 5200
โปรดติดต่อทีมงานของเราเพื่อตรวจสอบความพร้อมของเตาเผา Thermco 5200 มือสองในปัจจุบัน โปรดระบุขนาดเวเฟอร์ กระบวนการผลิตที่ต้องการ จำนวนท่อเตาเผาที่ต้องการ ช่วงอุณหภูมิเป้าหมาย ก๊าซที่ใช้ในกระบวนการ ประเทศปลายทาง และกำหนดการติดตั้ง
โปรดติดต่อเราเพื่อขอรูปภาพอุปกรณ์ปัจจุบัน รูปแบบท่อ ประวัติกระบวนการ สถานะการตรวจสอบ และใบเสนอราคา
คำถามที่พบบ่อย
เครื่อง Thermco 5200 สามารถประมวลผลเวเฟอร์ขนาดใดได้บ้าง?
แพลตฟอร์ม 5200 ที่เผยแพร่นี้รองรับเซมิคอนดักเตอร์และวัสดุที่เกี่ยวข้องที่มีเส้นผ่านศูนย์กลางสูงสุด 150 มม.
เตาเผา Thermco 5200 มีท่อกี่ท่อ?
สามารถติดตั้งแท่นวางได้ตั้งแต่สองถึงสี่ท่อ ต้องตรวจสอบจำนวนท่อที่ติดตั้งบนเครื่องจักรที่มีอยู่ก่อน
เครื่อง Thermco 5200 สามารถดำเนินการกระบวนการใดได้บ้าง?
กระบวนการที่เป็นไปได้ ได้แก่ การออกซิเดชัน การแพร่ การอบอ่อน และการใช้งาน LPCVD บางประเภท ท่อที่ติดตั้งแต่ละท่อจะต้องได้รับการตรวจสอบกระบวนการและรูปแบบก๊าซที่กำหนดไว้
เตาอบ Thermco 5200 ทุกรุ่นสามารถทำความร้อนได้ถึง 1,350°C หรือไม่?
ช่วงอุณหภูมิใช้งานที่ระบุไว้คือ 1,350°C แต่ค่าสูงสุดที่แท้จริงขึ้นอยู่กับฮีตเตอร์ที่ติดตั้ง เทอร์โมคัปเปิล วัสดุของท่อ และการกำหนดค่ากระบวนการ
