Le Thermco 5200 est une plateforme de four de diffusion horizontale pour la production de semi-conducteurs, de MEMS, de cellules photovoltaïques et de substrats connexes. La fiche technique indique que cet équipement est compatible avec des plaquettes jusqu'à 150 mm de diamètre.
La plateforme 5200 peut être configurée avec deux à quatre tubes de traitement indépendants. Chaque tube peut être affecté à l'oxydation, à la diffusion, au recuit ou à des procédés LPCVD compatibles, selon les matériaux des tubes installés, les systèmes de gaz et la configuration d'évacuation des gaz.

| Fabricant | Systèmes Thermco |
|---|---|
| Modèle | 5200 |
| Type d'équipement | Four à diffusion multitubes horizontal |
| Taille maximale du substrat | Jusqu'à 150 mm |
| Configuration des tubes de la plate-forme | Deux à quatre tubes de process, selon le système installé |
| Zone plate maximale | Jusqu'à 1 100 mm |
| Plage de fonctionnement publiée | 200 à 1 350 °C, selon le dispositif de chauffage et la configuration du procédé |
| Zones de chauffage | Trois zones de chauffage contrôlées indépendamment |
| Vitesse de rampe optionnelle | Jusqu'à 25 °C par minute avec l'option de montée en température rapide appropriée |
| Taux de refroidissement optionnel | Jusqu'à 20 °C par minute avec l'option de refroidissement rapide appropriée |
| Contrôle des processus | Système de contrôle de fournaise Thermco ; la version du contrôleur installé doit être confirmée |
| Condition | Utilisé équipement semi-conducteur |
| Disponibilité | Sous réserve de disponibilité des stocks, de la configuration des tubes et de la confirmation d'inspection |
Plateforme de four horizontale supportant des plaquettes jusqu'à 150 mm
Architecture de système configurable à deux ou quatre tubes
Zone de température plane jusqu'à 1 100 mm
Trois zones de chauffage contrôlées indépendamment
Les tubes individuels peuvent être configurés pour différents procédés thermiques.
Compatible avec le chargement manuel, semi-automatique ou automatisé dépendant de la configuration
Les applications publiées du Thermco 5200 comprennent l'oxydation humide et sèche, la diffusion de dopants, le recuit sous gaz de formage, le traitement thermique à haute température et d'autres traitements thermiques. Des tubes correctement configurés peuvent également supporter le nitrure de silicium, le polysilicium, le TEOS, le LTO ou des procédés LPCVD apparentés.
La machine disponible ne doit être utilisée que pour les procédés compatibles avec son système de tubes, son armoire à gaz, son système de pression et son système d'échappement. Différents tubes d'une même machine peuvent avoir des historiques de procédés différents.

Les spécifications publiées décrivent la plateforme configurable 5200. Le système d'occasion disponible peut contenir moins de quatre tubes, différents types de chauffage, un système de contrôle plus ancien ou des équipements de gaz et d'échappement spécifiques au procédé.
Avant l'établissement du devis, les clients doivent confirmer le nombre de tubes installés, les dimensions des tubes, l'état du chauffage, la plage de température, la verrerie en quartz, les nacelles à plaquettes, le système de chargement, les panneaux à gaz, les MFC, les régulateurs de pression, les pompes, le traitement des gaz d'échappement et la version du contrôleur.

Contactez notre équipe pour vérifier la disponibilité actuelle du Thermco 5200 d'occasion. Veuillez indiquer la taille de vos plaquettes, le procédé prévu, le nombre de tubes de four requis, la plage de température cible, les gaz de procédé, le pays de destination et le calendrier d'installation.
Contactez-nous pour obtenir des photos de l'équipement actuel, la configuration des tubes, l'historique du processus, l'état de l'inspection et un devis.
La plateforme 5200 publiée prend en charge les substrats semi-conducteurs et connexes jusqu'à 150 mm de diamètre.
La plateforme peut être configurée avec deux à quatre tubes de traitement. Le nombre installé sur la machine disponible doit être confirmé.
Les procédés possibles incluent l'oxydation, la diffusion, le recuit et certaines applications LPCVD. Chaque tube installé doit être vérifié en fonction du procédé et de la configuration des gaz qui lui sont attribués.
La plage de température annoncée pour la plateforme s'étend jusqu'à 1 350 °C, mais la température maximale réelle dépend du dispositif de chauffage installé, des thermocouples, des matériaux des tubes et de la configuration du processus.