Lò khuếch tán nằm ngang Thermco 5200
Thermco 5200 là một hệ thống lò khuếch tán nằm ngang dùng trong sản xuất chất bán dẫn, MEMS, quang điện và các công nghệ xử lý chất nền liên quan. Thông tin hiện có cho biết thiết bị này phù hợp với các tấm wafer có đường kính lên đến 150 mm.
Nền tảng 5200 có thể được cấu hình với từ hai đến bốn ống xử lý độc lập. Mỗi ống riêng lẻ có thể được chỉ định cho các quy trình oxy hóa, khuếch tán, ủ hoặc LPCVD tương thích, tùy thuộc vào vật liệu ống, hệ thống khí và cấu hình khí thải được lắp đặt.
Thông số kỹ thuật chính của Thermco 5200
| Nhà sản xuất | Hệ thống Thermoco |
|---|---|
| Người mẫu | 5200 |
| Loại thiết bị | Lò khuếch tán đa ống nằm ngang |
| Kích thước chất nền tối đa | Lên đến 150 mm |
| Cấu hình ống nền tảng | Từ hai đến bốn ống xử lý, tùy thuộc vào hệ thống được lắp đặt. |
| Vùng bằng phẳng tối đa | Lên đến 1.100 mm |
| Phạm vi hoạt động được công bố | 200–1.350°C, tùy thuộc vào thiết bị gia nhiệt và cấu hình quy trình. |
| Khu vực sưởi ấm | Ba khu vực lò nung được điều khiển độc lập |
| Tốc độ tăng tùy chọn | Tăng nhiệt độ lên đến 25°C mỗi phút với tùy chọn tăng nhiệt nhanh phù hợp. |
| Tốc độ làm mát tùy chọn | Tăng nhiệt độ lên đến 20°C mỗi phút với tùy chọn làm lạnh nhanh phù hợp. |
| Kiểm soát quy trình | Hệ thống điều khiển lò sưởi Thermco; cần xác nhận phiên bản bộ điều khiển đã lắp đặt. |
| Tình trạng | Đã sử dụng thiết bị bán dẫn |
| Tính khả dụng | Tùy thuộc vào lượng hàng tồn kho hiện tại, cấu hình ống và xác nhận kiểm tra. |
Các tính năng chính của thiết bị
Bệ lò nung nằm ngang hỗ trợ các tấm bán dẫn có kích thước lên đến 150 mm.
Kiến trúc hệ thống hai đến bốn ống có thể cấu hình
Vùng nhiệt độ phẳng lên đến 1.100 mm
Ba khu vực sưởi ấm được điều khiển độc lập
Các ống riêng lẻ có thể được cấu hình cho các quy trình nhiệt khác nhau.
Tương thích với chế độ nạp liệu thủ công, bán tự động hoặc tự động tùy thuộc vào cấu hình.
Ứng dụng điển hình
Các ứng dụng đã được công bố của Thermco 5200 bao gồm oxy hóa ướt và khô, khuếch tán chất pha tạp, ủ khí tạo hình, gia công ở nhiệt độ cao và các xử lý nhiệt khác. Các ống được cấu hình đúng cách cũng có thể hỗ trợ silicon nitride, polysilicon, TEOS, LTO hoặc các quy trình LPCVD liên quan.
Máy móc hiện có chỉ nên được đưa vào sử dụng cho các quy trình được hỗ trợ bởi ống, tủ khí, hệ thống áp suất và thiết bị hút khí đã được lắp đặt. Các ống khác nhau trong cùng một máy chính có thể có lịch sử quy trình khác nhau.
Cấu hình và kiểm tra thiết bị đã qua sử dụng
Các thông số kỹ thuật đã công bố mô tả nền tảng 5200 có thể cấu hình. Hệ thống đã qua sử dụng có thể chứa ít hơn bốn ống, các loại bộ gia nhiệt khác nhau, hệ thống điều khiển cũ hơn hoặc thiết bị khí và xả chuyên dụng cho quy trình.
Trước khi báo giá, khách hàng cần xác nhận số lượng ống lắp đặt, kích thước ống, tình trạng bộ gia nhiệt, phạm vi nhiệt độ, dụng cụ thạch anh, khay đựng wafer, hệ thống nạp liệu, bảng điều khiển khí, MFC, bộ điều khiển áp suất, máy bơm, xử lý khí thải và phiên bản bộ điều khiển.
Yêu cầu thông tin về Thermco 5200
Vui lòng liên hệ với nhóm của chúng tôi để kiểm tra tình trạng sẵn có của máy Thermco 5200 đã qua sử dụng. Vui lòng cung cấp kích thước wafer, quy trình dự định sử dụng, số lượng ống lò nung cần thiết, phạm vi nhiệt độ mục tiêu, khí xử lý, quốc gia đích và lịch trình lắp đặt.
Vui lòng liên hệ với chúng tôi để xem ảnh thiết bị hiện tại, cấu hình ống, lịch sử quy trình, tình trạng kiểm tra và báo giá.
Câu hỏi thường gặp
Máy Thermco 5200 có thể xử lý tấm wafer kích thước nào?
Nền tảng 5200 được công bố hỗ trợ các chất nền bán dẫn và các chất nền liên quan có đường kính lên đến 150 mm.
Lò sưởi Thermco 5200 có bao nhiêu ống dẫn khí?
Hệ thống có thể được cấu hình với từ hai đến bốn ống xử lý. Số lượng ống được lắp đặt trên máy hiện có cần được xác nhận.
Máy Thermco 5200 có thể thực hiện những quy trình nào?
Các quy trình có thể bao gồm oxy hóa, khuếch tán, ủ nhiệt và một số ứng dụng LPCVD nhất định. Mỗi ống được lắp đặt phải được kiểm tra quy trình và cấu hình khí được chỉ định.
Liệu tất cả các dòng máy Thermco 5200 đều hoạt động được ở nhiệt độ lên đến 1.350°C?
Phạm vi nhiệt độ hoạt động được công bố trên nền tảng lên đến 1.350°C, nhưng nhiệt độ tối đa thực tế phụ thuộc vào bộ gia nhiệt, cặp nhiệt điện, vật liệu ống và cấu hình quy trình được lắp đặt.
