Der ASML TWINSCAN AT:1150i ist ein 193-nm-ArF-Immersionsmikroskop der ersten Generation. Lithographiemaschine Der Scanner wurde für die Forschung an fortschrittlichen Halbleiterprozessen und die Evaluierung von Immersionslithografie entwickelt. Das System basiert auf der ASML TWINSCAN-Plattform und unterstützt die Bearbeitung von 300-mm-Wafern.
Das AT:1150i wurde ursprünglich als Entwicklungs- und Vorproduktionssystem für Immersionslithografie eingeführt und diente der Evaluierung von Fotolackmaterialien, dem Verhalten von Immersionsprozessen, der Abbildungsleistung sowie Anwendungen in der Halbleiterlithografie. Es eignet sich für Forschungsinstitute, Halbleiterentwicklungszentren und spezialisierte Waferfertigungsprojekte, die eine 193-nm-Immersionsplattform benötigen.
ASML AT:1150i Hauptmerkmale
| Hersteller | ASML |
|---|---|
| Modell | TWINSCAN AT:1150i |
| Gerätetyp | ArF-Immersionslithographie-Scanner |
| Belichtungswellenlänge | 193 nm |
| Numerische Apertur | DAS 0,75 |
| Wafergröße | 300 mm |
| Zustand | Gebraucht Halbleiterausrüstung |
| Verfügbarkeit | Vorbehaltlich der aktuellen Lagerverfügbarkeit und Konfigurationsbestätigung |
Wichtigste Ausstattungsmerkmale
193 nm ArF-Immersionsbelichtungstechnologie
Konzipiert für die Bearbeitung von 300-mm-Halbleiterwafern.
ASML TWINSCAN Lithographieplattform
Geeignet für die Entwicklung und Bewertung von Immersionsprozessen
Anwendbar auf die Forschung in den Bereichen Fotolack, Bildgebung und Lithographie.
Verfügbar als gebrauchte Halbleiterfertigungsanlagen
Typische Anwendungen
Je nach installierter Konfiguration und aktuellem Gerätezustand kann die gebrauchte ASML AT:1150i für die Halbleiterlithographieforschung, die Entwicklung von Immersionsprozessen, die Materialbewertung, technische Experimente, technische Schulungen und andere spezialisierte 300-mm-Wafer-Projekte in Betracht gezogen werden.
Da es sich bei der AT:1150i um eine frühe Entwicklungsplattform für Immersionslaser handelte, sollten Kunden vor dem Kauf den erforderlichen Prozess, die installierten Optionen, die Softwareversion, die Laserkonfiguration, die Anlagenanforderungen und den Gerätezustand bestätigen.
Gebrauchtgeräteprüfung und -versorgung
Die genaue Konfiguration der einzelnen verwendeten ASML-Lithografiesysteme kann variieren. Verfügbare Maschineninformationen umfassen Fotos der Geräte, Seriennummer, installierte Module, aktuellen Standort, Betriebszustand und verfügbare technische Dokumente.
Unterstützung bei der Geräteinspektion, Demontage, Verpackung, dem internationalen Transport, der Installationskoordination und der Ersatzteilbeschaffung kann je nach Projektanforderungen besprochen werden.
ASML AT:1150i-Informationen anfordern
Kontaktieren Sie unser Team, um die aktuelle Verfügbarkeit des gebrauchten ASML TWINSCAN AT:1150i zu prüfen. Bitte teilen Sie uns Ihre Zielanwendung, das Zielland, den erforderlichen Gerätezustand und den geplanten Installationstermin mit, damit wir die verfügbaren Konfigurationen prüfen können.
Kontaktieren Sie uns für Fotos der Ausrüstung, Konfigurationsdetails, Inspektionsstatus und ein Angebot.
Häufig gestellte Fragen
Handelt es sich bei der ASML AT:1150i um ein Trocken- oder Immersionslithographiesystem?
Der TWINSCAN AT:1150i ist ein 193-nm-ArF-Immersionslithografiescanner. Er verwendet während der Belichtung ein Immersionsmedium zwischen der Projektionsoptik und dem Wafer.
Welche Wafergröße unterstützt der AT:1150i?
Der ASML TWINSCAN AT:1150i wurde für die Bearbeitung von 300-mm-Wafern entwickelt.
Ist das gebrauchte AT:1150i derzeit betriebsbereit?
Der Betriebszustand hängt von der jeweiligen Maschine ab. Aktueller Betriebszustand, Vollständigkeit, fehlende Komponenten und Prüfberichte sollten vor Angebotserstellung geprüft werden.
Können Sie Unterstützung bei der Installation und beim Versand anbieten?
Die Koordination von Geräteinspektion, Demontage, Verpackung, Transport und Installation kann je nach Maschinenstandort und Zielort erfolgen.