二手 ASML TWINSCAN AT:1150i 193nm ArF 掃描儀

ASML TWINSCAN AT:1150i 是早期 193 nm ArF 浸沒式雷射。 光刻機 這款掃描器專為先進半導體製程研究和浸沒式光刻評估而開發。該系統基於ASML TWINSCAN平台，支援300毫米晶圓加工。

AT:1150i 最初是作為浸沒式微影開發和預生產系統推出的，用於評估光阻材料、浸沒式製程特性、成像性能和半導體光刻應用。它適用於需要 193 nm 浸沒式平台的研究機構、半導體開發中心和專業晶圓製造專案。

ASML AT:1150i 主要規格

主要設備特性

• 193奈米ArF浸沒式曝光技術

• 專為 300 毫米半導體晶圓加工設計

• ASML TWINSCAN 微影平台

• 適用於浸沒過程的發展和評估

• 適用於光阻、成像和光刻研究

• 可作為二手半導體製造設備出售

典型應用

根據安裝配置和當前設備狀況，二手 ASML AT:1150i 可用於半導體光刻研究、浸沒製程開發、材料評估、工程實驗、技術培訓和其他 300 毫米晶圓專業專案。

由於 AT:1150i 是早期的浸沒式開發平台，客戶在購買前應確認所需的流程、已安裝的選項、軟體版本、雷射配置、設施要求和設備狀況。

二手設備檢驗和供應

每台二手ASML光刻系統的具體配置可能有所不同。可提供的設備資訊包括設備照片、序號、已安裝模組、目前位置、運作狀態以及相關技術文件。

可根據專案要求討論設備檢查、拆卸、包裝、國際運輸、安裝協調和備件採購的支援。

請求 ASML AT:1150i 訊息

請聯絡我們的團隊，查詢二手 ASML TWINSCAN AT:1150i 的當前庫存情況。請提供您的目標應用程式、目的地國家/地區、所需設備狀況以及預計安裝時間，以便我們評估可用的配置。

請聯絡我們索取設備照片、配置詳情、檢驗狀態和報價。

常見問題解答

ASML AT:1150i 是乾式微影系統還是浸沒式微影系統？

TWINSCAN AT:1150i 是一台 193 奈米 ArF 浸沒式微影掃描器。它在曝光過程中使用投影光學元件和晶圓之間的浸沒介質。

AT:1150i 支​​援哪種晶圓尺寸？

ASML TWINSCAN AT:1150i 是為 300 毫米晶圓加工而開發的。

這台二手的 AT:1150i 目前還能正常使用嗎？

運作狀況取決於特定機器。報價前應確認目前通電狀態、配件齊全情況、缺失零件、檢驗記錄。

你們能提供安裝和運輸支援嗎？

可根據機器所在地和目的地工廠來評估設備的檢查、拆卸、包裝、運輸和安裝協調。