De ASML TWINSCAN AT:1150i is een ArF-immersiemicroscoop van de eerste generatie met een golflengte van 193 nm. lithografiemachine Scanner ontwikkeld voor geavanceerd onderzoek naar halfgeleiderprocessen en evaluatie van immersielithografie. Het systeem is gebouwd op het ASML TWINSCAN-platform en ondersteunt de verwerking van 300 mm wafers.
De AT:1150i werd oorspronkelijk geïntroduceerd als een systeem voor de ontwikkeling en pre-productie van immersielithografie en werd gebruikt voor het evalueren van fotogevoelige materialen, het procesgedrag bij immersielithografie, beeldprestaties en toepassingen in de halfgeleiderlithografie. Het is geschikt voor onderzoeksinstellingen, halfgeleiderontwikkelingscentra en gespecialiseerde waferproductieprojecten die een immersieplatform van 193 nm vereisen.
Belangrijkste specificaties van de ASML AT:1150i
| Fabrikant | ASML |
|---|---|
| Model | TWINSCAN AT:1150i |
| Apparaattype | ArF Immersion Lithography Scanner |
| Belichtingsgolflengte | 193 nm |
| Numerieke apertuur | DAT 0,75 |
| Wafergrootte | 300 mm |
| Voorwaarde | Gebruikt Halfgeleiderapparatuur |
| Beschikbaarheid | Onder voorbehoud van actuele voorraad en configuratiebevestiging. |
Belangrijkste kenmerken van de apparatuur
193 nm ArF immersiebelichtingstechnologie
Ontworpen voor de verwerking van halfgeleiderwafels van 300 mm.
ASML TWINSCAN lithografieplatform
Geschikt voor de ontwikkeling en evaluatie van immersieprocessen.
Toepasbaar op onderzoek naar fotolakken, beeldvorming en lithografie.
Beschikbaar als gebruikte halfgeleiderproductieapparatuur
Typische toepassingen
Afhankelijk van de geïnstalleerde configuratie en de huidige staat van de apparatuur, kan de gebruikte ASML AT:1150i worden overwogen voor onderzoek naar halfgeleiderlithografie, ontwikkeling van immersieprocessen, materiaalevaluatie, technische experimenten, technische training en andere gespecialiseerde projecten met 300 mm wafers.
Aangezien de AT:1150i een van de eerste platforms voor immersieve ontwikkeling was, dienen klanten vóór aankoop het vereiste proces, de geïnstalleerde opties, de softwareversie, de laserconfiguratie, de faciliteitseisen en de staat van de apparatuur te controleren.
Inspectie en levering van gebruikte apparatuur
De exacte configuratie van elk gebruikt ASML-lithografiesysteem kan variëren. Beschikbare machine-informatie kan bestaan uit foto's van de apparatuur, serienummer, geïnstalleerde modules, huidige locatie, operationele status en beschikbare technische documenten.
Ondersteuning bij inspectie, demontage, verpakking, internationaal transport, coördinatie van de installatie en het verkrijgen van reserveonderdelen kan worden besproken op basis van de projectvereisten.
Informatie aanvragen voor ASML AT:1150i
Neem contact op met ons team om de actuele beschikbaarheid van de gebruikte ASML TWINSCAN AT:1150i te controleren. Vermeld uw beoogde toepassing, het land van bestemming, de vereiste staat van de apparatuur en de verwachte installatieplanning, zodat we de beschikbare configuraties kunnen bekijken.
Neem contact met ons op voor foto's van de apparatuur, configuratiegegevens, de status van de inspectie en een offerte.
Veelgestelde vragen
Is de ASML AT:1150i een droog- of een immersielithografiesysteem?
De TWINSCAN AT:1150i is een 193 nm ArF-immersielithografiescanner. Deze maakt gebruik van een immersiemedium tussen de projectieoptiek en de wafer tijdens de belichting.
Welke waferformaten ondersteunt de AT:1150i?
De ASML TWINSCAN AT:1150i is ontwikkeld voor de verwerking van 300 mm wafers.
Is de gebruikte AT:1150i momenteel nog operationeel?
De bedrijfsomstandigheden zijn afhankelijk van de individuele machine. De huidige status van de machine (ingeschakeld), de volledigheid, eventuele ontbrekende onderdelen en inspectiegegevens dienen vóór de offerte te worden bevestigd.
Kunt u ondersteuning bieden bij installatie en verzending?
De inspectie, demontage, verpakking, transport en installatiecoördinatie van de apparatuur kunnen worden beoordeeld op basis van de locatie van de machine en de bestemming van de installatie.