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Scanner ASML TWINSCAN AT:1150i 193nm ArF usato

Sistema di litografia a immersione ArF ASML TWINSCAN AT:1150i da 193 nm usato per lo sviluppo di processi su wafer da 300 mm. Richiedere informazioni su configurazione, condizioni e disponibilità.

Used ASML TWINSCAN AT:1150i 193nm ArF Scanner IMMAGINE DELL'ATTREZZATURA
Revisione della configurazione Modello e opzioni installate
Forniture nuove/usate Soggetto alla disponibilità del progetto
Consegna globale Valutazione basata sulla destinazione
Richiesta di offerta tecnica Abbinamento di pacchetti e processi

L'ASML TWINSCAN AT:1150i è un sistema di scansione a immersione ArF a 193 nm di prima generazione. macchina per litografia Scanner sviluppato per la ricerca avanzata sui processi dei semiconduttori e per la valutazione della litografia a immersione. Il sistema è basato sulla piattaforma ASML TWINSCAN e supporta la lavorazione di wafer da 300 mm.

Originariamente concepito come sistema di sviluppo e pre-produzione per la litografia a immersione, l'AT:1150i è stato utilizzato per valutare materiali fotoresist, il comportamento del processo di immersione, le prestazioni di imaging e le applicazioni di litografia per semiconduttori. È adatto a istituti di ricerca, centri di sviluppo per semiconduttori e progetti specializzati di fabbricazione di wafer che richiedono una piattaforma di litografia a immersione a 193 nm.

ASML TWINSCAN AT 1150i

Specifiche principali ASML AT:1150i

ProduttoreASML
ModelloTWINSCAN AT:1150i
Tipo di apparecchiaturaScanner per litografia a immersione ArF
Lunghezza d'onda di esposizione193 nm
Apertura numericaQUEL 0,75
Dimensioni del wafer300 mm
CondizioneUsato Apparecchiature per semiconduttori
DisponibilitàSalvo disponibilità di magazzino e conferma della configurazione

Caratteristiche principali dell'apparecchiatura

  • Tecnologia di esposizione a immersione ArF a 193 nm

  • Progettato per la lavorazione di wafer di semiconduttori da 300 mm

  • Piattaforma di litografia ASML TWINSCAN

  • Adatto allo sviluppo e alla valutazione dei processi di immersione

  • Applicabile alla ricerca su fotoresist, imaging e litografia.

  • Disponibile come apparecchiatura usata per la produzione di semiconduttori

Applicazioni tipiche

A seconda della configurazione installata e delle condizioni attuali dell'apparecchiatura, l'ASML AT:1150i usato può essere considerato per la ricerca sulla litografia dei semiconduttori, lo sviluppo di processi a immersione, la valutazione dei materiali, esperimenti di ingegneria, formazione tecnica e altri progetti specializzati su wafer da 300 mm.

Poiché l'AT:1150i era una delle prime piattaforme di sviluppo per la tecnologia a immersione, i clienti sono tenuti a verificare il processo richiesto, le opzioni installabili, la versione del software, la configurazione del laser, i requisiti della struttura e le condizioni dell'apparecchiatura prima dell'acquisto.

ASML AT 1150i

Ispezione e fornitura di attrezzature usate

La configurazione esatta di ciascun sistema di litografia ASML utilizzato può variare. Le informazioni disponibili sulla macchina possono includere foto dell'apparecchiatura, numero di serie, moduli installati, posizione attuale, stato operativo e documentazione tecnica disponibile.

Il supporto per l'ispezione delle apparecchiature, lo smontaggio, l'imballaggio, il trasporto internazionale, il coordinamento dell'installazione e l'approvvigionamento dei pezzi di ricambio può essere discusso in base alle esigenze del progetto.

USED ASML AT 193nm

Richiesta di informazioni ASML AT:1150i

Contatta il nostro team per verificare la disponibilità attuale dello scanner ASML TWINSCAN AT:1150i usato. Ti preghiamo di indicare l'applicazione di destinazione, il paese di destinazione, le condizioni richieste per l'apparecchiatura e la data di installazione prevista, in modo da poter valutare la configurazione disponibile.

Contattateci per foto delle apparecchiature, dettagli di configurazione, stato dell'ispezione e preventivo.

Domande frequenti

Il sistema ASML AT:1150i è un sistema di litografia a secco o a immersione?

Il TWINSCAN AT:1150i è uno scanner per litografia a immersione ArF a 193 nm. Utilizza un mezzo di immersione tra l'ottica di proiezione e il wafer durante l'esposizione.

Quali dimensioni di wafer supporta l'AT:1150i?

Il sistema ASML TWINSCAN AT:1150i è stato sviluppato per la lavorazione di wafer da 300 mm.

L'AT:1150i utilizzato è attualmente funzionante?

Le condizioni operative dipendono dalla singola macchina. Prima di formulare un preventivo, è necessario verificare lo stato di accensione, la completezza, l'eventuale presenza di componenti mancanti e la documentazione relativa alle ispezioni.

Potete fornire assistenza per l'installazione e la spedizione?

Il coordinamento delle fasi di ispezione, smontaggio, imballaggio, trasporto e installazione delle apparecchiature può essere valutato in base all'ubicazione della macchina e alla struttura di destinazione.