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Scanner ArF ASML TWINSCAN AT:1150i 193 nm d'occasion

Système de lithographie par immersion ASML TWINSCAN AT:1150i 193 nm ArF d'occasion pour le développement de procédés sur plaquettes de 300 mm. Veuillez nous contacter pour connaître la configuration, l'état et la disponibilité.

Used ASML TWINSCAN AT:1150i 193nm ArF Scanner IMAGE DE L'ÉQUIPEMENT
Examen de la configuration Modèle et options installées
Fournitures neuves/d'occasion Sous réserve de la disponibilité du projet
Livraison mondiale Évaluation basée sur la destination
Demande de devis technique Correspondance des paquets et des processus

L'ASML TWINSCAN AT:1150i est un scanner à immersion ArF 193 nm de première génération. machine de lithographie Scanner conçu pour la recherche avancée sur les procédés de fabrication de semi-conducteurs et l'évaluation de la lithographie par immersion. Ce système, basé sur la plateforme ASML TWINSCAN, prend en charge le traitement de plaquettes de 300 mm.

Initialement conçu comme système de développement et de préproduction pour la lithographie par immersion, l'AT:1150i a été utilisé pour évaluer les matériaux de photorésine, le comportement des procédés d'immersion, les performances d'imagerie et les applications de lithographie pour semi-conducteurs. Il convient aux instituts de recherche, aux centres de développement de semi-conducteurs et aux projets de fabrication de plaquettes spécialisés nécessitant une plateforme d'immersion à 193 nm.

ASML TWINSCAN AT 1150i

Caractéristiques principales de l'ASML AT:1150i

FabricantASML
ModèleTWINSCAN AT:1150i
Type d'équipementScanner de lithographie par immersion ArF
Longueur d'onde d'exposition193 nm
Ouverture numériqueCE 0,75
Taille de la plaquette300 mm
ConditionUtilisé Équipements pour semi-conducteurs
DisponibilitéSous réserve de disponibilité des stocks et de confirmation de configuration

Principales caractéristiques de l'équipement

  • Technologie d'exposition par immersion ArF à 193 nm

  • Conçu pour le traitement des plaquettes de semi-conducteurs de 300 mm

  • Plateforme de lithographie ASML TWINSCAN

  • Convient au développement et à l'évaluation des procédés d'immersion

  • Applicable à la recherche sur la photorésine, l'imagerie et la lithographie

  • Disponible en tant qu'équipement de fabrication de semi-conducteurs d'occasion

Applications typiques

En fonction de la configuration installée et de l'état actuel de l'équipement, le système ASML AT:1150i d'occasion peut être envisagé pour la recherche en lithographie des semi-conducteurs, le développement de procédés d'immersion, l'évaluation des matériaux, les expériences d'ingénierie, la formation technique et d'autres projets spécialisés sur plaquettes de 300 mm.

L'AT:1150i étant une plateforme de développement par immersion de première génération, les clients doivent confirmer le processus requis, les options installées, la version du logiciel, la configuration du laser, les exigences de l'installation et l'état de l'équipement avant l'achat.

ASML AT 1150i

Inspection et fourniture de matériel d'occasion

La configuration exacte de chaque système de lithographie ASML d'occasion peut varier. Les informations disponibles sur la machine peuvent inclure des photos de l'équipement, le numéro de série, les modules installés, l'emplacement actuel, l'état de fonctionnement et les documents techniques disponibles.

L’assistance pour l’inspection, le démontage, l’emballage, le transport international, la coordination de l’installation et l’approvisionnement en pièces détachées des équipements peut être discutée en fonction des exigences du projet.

USED ASML AT 193nm

Demande d'informations ASML AT:1150i

Contactez notre équipe pour connaître la disponibilité actuelle du scanner ASML TWINSCAN AT:1150i d'occasion. Veuillez préciser votre application cible, le pays de destination, l'état requis du matériel et le calendrier d'installation prévu afin que nous puissions examiner la configuration disponible.

Contactez-nous pour obtenir des photos de l'équipement, des détails de configuration, l'état de l'inspection et un devis.

Foire aux questions

Le système ASML AT:1150i est-il un système de lithographie sèche ou par immersion ?

Le TWINSCAN AT:1150i est un scanner de lithographie par immersion ArF de 193 nm. Il utilise un milieu d'immersion entre l'optique de projection et la plaquette pendant l'exposition.

Quelle est la taille des plaquettes prises en charge par l'AT:1150i ?

Le système ASML TWINSCAN AT:1150i a été développé pour le traitement de plaquettes de 300 mm.

L'appareil AT:1150i d'occasion est-il actuellement fonctionnel ?

L'état de fonctionnement dépend de chaque machine. Avant d'établir un devis, il convient de vérifier l'état actuel de la machine (mise sous tension, intégralité de la commande, composants manquants et rapports d'inspection).

Pouvez-vous assurer l'installation et la livraison ?

L'inspection, le démontage, l'emballage, le transport et la coordination de l'installation des équipements peuvent être évalués en fonction de l'emplacement de la machine et du site de destination.