Die SAMCO PD-3800L ist eine Schleusen-basierte Plasma-CVD-Anlage (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) zur Chargenabscheidung von Silizium-Dünnschichten. Mehrere Wafer werden auf einem großen Träger platziert und gemeinsam in der Reaktionskammer verarbeitet.
Zu den veröffentlichten Anwendungen gehören die Abscheidung von Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, Siliziumoxynitrid und amorphem Silizium. Das System ist für Anwendungen konzipiert, die hohe Produktivität bei der Serienfertigung, gleichmäßige Schichtdicken, Spannungssteuerung und reproduzierbare Prozesse erfordern.
SAMCO PD-3800L Hauptspezifikationen
| Hersteller | SAMCO |
|---|---|
| Modell | PD-3800L |
| Gerätetyp | Load-Lock Batch PECVD-System |
| Beschichtungstechnologie | Plasmaverstärkte chemische Gasphasenabscheidung |
| Maximale Verarbeitungsfläche | Trägerwanne mit einem Durchmesser von ca. 360 mm |
| Veröffentlichte Wafer-Beladung | Je nach Trägerschale können bis zu 9 Wafer der Größen × 3 Zoll, 6 × 4 Zoll oder 3 × 6 Zoll untergebracht werden. |
| Veröffentlichte Filmmaterialien | SiO2, SiN, SiON und amorphes Silizium |
| Veröffentlichte Prozessbeispiele | SiH4-SiNx, SiH4-SiO2, flüssiger Vorläufer SiNx und TEOS-SiO2 |
| Waferbeladung | Verladekammer mit chargenweiser Verarbeitung auf Schalenbasis |
| Steuerungsschnittstelle | Parametersteuerung per Touchscreen und Rezeptspeicherung in der veröffentlichten Plattform |
| Zustand | Gebraucht Halbleiteranlagen |
| Verfügbarkeit | Vorbehaltlich des aktuellen Lagerbestands, der Konfiguration des Transportunternehmens und der Bestätigung der Inspektion. |
Wichtigste Ausstattungsmerkmale
Stapelverarbeitung mehrerer Wafer auf einem großen Trägertablett
Schleusenkammer für verbesserte Prozessstabilität
Veröffentlichte Unterstützung für Siliziumoxid-, -nitrid-, -oxynitrid- und amorphe Siliziumfilme
Entwickelt für gleichmäßigen Filmauftrag und Spannungsverteilung im gesamten Trägerbereich
Rezeptspeicherung und Prozesssteuerung per Touchscreen
Für die Plattform wurde optional ein automatischer Wafertransfer angeboten.
Typische Anwendungen
Die PD-3800L eignet sich zur Abscheidung von Isolier-, dielektrischen und Passivierungsschichten in Silizium- und Halbleiterwerkstoffen. Ihr großes Tablett ist besonders vorteilhaft, wenn mehrere kleinere Wafer im selben Abscheidungsvorgang bearbeitet werden müssen.
Die tatsächliche Waferanzahl hängt vom verwendeten Trägertablett ab. Filmmaterial, Abscheidungsrate, Schichtdickenhomogenität und Spannungsfestigkeit hängen von den Kammerbedingungen, der Elektrodenkonfiguration, der Gaszufuhr, den HF-Komponenten, der Temperaturregelung und dem qualifizierten Rezept ab.
Konfiguration und Inspektion gebrauchter Geräte
Vor der Angebotserstellung sollten Kunden den Durchmesser des Trägertabletts und das Wafer-Layout, den Betrieb der Schleuse, den Kammerzustand, den HF-Generator, das Anpassungsnetzwerk, die Substratheizung, die Gaskammer, die MFC-Bereiche, das Flüssigvorläufer-Zuführungssystem und die Vakuumpumpen bestätigen.
Automatische Transfereinrichtungen waren optional erhältlich und sind nicht im Lieferumfang enthalten. Der endgültige Lieferumfang sollte das Hauptsystem, die Pumpen, die Gasausrüstung, die Transportwanne, den Steuerrechner und alle externen Schaltschränke umfassen.
Informationen zum SAMCO PD-3800L anfordern
Kontaktieren Sie unser Team, um die aktuelle Verfügbarkeit der gebrauchten SAMCO PD-3800L zu prüfen. Bitte geben Sie Ihre Wafergröße, die Anzahl der Wafer pro Charge, den Zielfilm, die Prozesschemie, das Zielland und den Installationsplan an.
Kontaktieren Sie uns für Fotos der Ausrüstung, Informationen zur Trägerplattenkonfiguration, zur Kammergeschichte, zum Inspektionsstatus und für ein Angebot.
Häufig gestellte Fragen
Welche Filme kann der PD-3800L auftragen?
Zu den veröffentlichten Anwendungen gehören SiO₂, SiN, SiON und amorphes Silizium. Die installierte Gas- und Vorläuferkonfiguration muss die gewünschte Schichtbildung ermöglichen.
Handelt es sich beim PD-3800L um ein Einzelwafer-System?
Nein. Es ist für die chargenweise Verarbeitung mehrerer Wafer in einer Reaktionskammer mittels Trays konzipiert.
Wie viele Wafer passen auf die Trägerschale?
SAMCO bietet Konfigurationen für Wafer der Größen 9 × 3 Zoll, 6 × 4 Zoll oder 3 × 6 Zoll an. Die genaue Kapazität hängt vom mit der gebrauchten Maschine gelieferten Träger ab.
Ist bei jedem PD-3800L ein automatischer Wafertransfer enthalten?
Nein. Die automatische Kassetten-zu-Kassetten-Überführung wurde als Option angeboten. Die Verfügbarkeit dieser Funktion muss an den vorhandenen Geräten überprüft werden.
