Le SAMCO PD-3800L est un système de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) à sas de chargement, conçu pour le dépôt par lots de couches minces à base de silicium. Plusieurs plaquettes sont placées sur un grand plateau et traitées simultanément dans la chambre de réaction.
Les applications publiées comprennent le dépôt d'oxyde de silicium, de nitrure de silicium, d'oxynitrure de silicium et de silicium amorphe. Ce système est conçu pour les applications exigeant une productivité par lots, une uniformité de film, un contrôle des contraintes et un processus reproductible.
Caractéristiques principales du SAMCO PD-3800L
| Fabricant | SAMCO |
|---|---|
| Modèle | PD-3800L |
| Type d'équipement | Système PECVD par lots à sas de chargement |
| Technologie de dépôt | dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma |
| Surface de traitement maximale | Surface du plateau porte-plateau d'environ 360 mm de diamètre |
| Chargement de plaquettes publié | Jusqu'à 9 plaquettes de 7,6 cm, 15,2 cm ou 7,6 cm, selon le plateau de support. |
| Documents cinématographiques publiés | SiO2, SiN, SiON et silicium amorphe |
| Exemples de processus publiés | SiH4-SiNx, SiH4-SiO2, précurseur liquide SiNx et TEOS-SiO2 |
| Chargement de plaquettes | Chambre de chargement à sas avec traitement par lots sur plateaux |
| Interface de contrôle | Contrôle des paramètres par écran tactile et stockage des recettes sur la plateforme publiée |
| Condition | Utilisé équipement semi-conducteur |
| Disponibilité | Sous réserve de disponibilité des stocks, de la configuration du transporteur et de la confirmation d'inspection |
Principales caractéristiques de l'équipement
Traitement par lots de plusieurs plaquettes sur un grand plateau de support
Sas de chargement pour une meilleure stabilité du processus
Supports publiés pour les films d'oxyde de silicium, de nitrure, d'oxynitrure et de silicium amorphe
Conçu pour assurer l'uniformité du film et le contrôle des contraintes sur toute la surface du support.
Stockage des recettes et contrôle des processus par écran tactile
Le transfert automatique optionnel de plaquettes était proposé pour la plateforme.
Applications typiques
Le PD-3800L permet le dépôt de couches isolantes, diélectriques et de passivation dans les procédés de fabrication de silicium et de semi-conducteurs composés. Son grand plateau est particulièrement pratique pour le traitement simultané de plusieurs plaquettes de petite taille.
Le nombre réel de plaquettes dépend du plateau de support installé. Le matériau du film, le taux de dépôt, l'uniformité d'épaisseur et la résistance aux contraintes dépendent des conditions de la chambre, de la configuration des électrodes, de l'alimentation en gaz, des composants RF, du contrôle de la température et du procédé de fabrication.
Configuration et inspection du matériel d'occasion
Avant d'établir un devis, les clients doivent confirmer le diamètre du plateau porteur et la disposition des plaquettes, le fonctionnement du sas de chargement, l'état de la chambre, le générateur RF, le réseau d'adaptation, le chauffage du substrat, la boîte à gaz, les plages MFC, le système d'alimentation en précurseur liquide et les pompes à vide.
L'équipement de transfert automatique était disponible en option et ne doit pas être considéré comme inclus. Le descriptif final de la livraison doit préciser le système principal, les pompes, l'équipement de gaz, le plateau, l'ordinateur de contrôle et toutes les armoires externes.
Demande d'informations sur le SAMCO PD-3800L
Contactez notre équipe pour vérifier la disponibilité actuelle du SAMCO PD-3800L d'occasion. Veuillez indiquer la taille de vos plaquettes, le nombre de plaquettes par lot, le film cible, la chimie de traitement, le pays de destination et le calendrier d'installation.
Contactez-nous pour obtenir des photos de l'équipement, la configuration des plateaux de transport, l'historique de la chambre, l'état de l'inspection et un devis.
Foire aux questions
Quels films le PD-3800L peut-il déposer ?
Les applications publiées incluent le SiO2, le SiN, le SiON et le silicium amorphe. La configuration du gaz et du précurseur installés doit permettre d'obtenir le film demandé.
Le PD-3800L est-il un système à plaquette unique ?
Non. Il est conçu pour le traitement par lots de plusieurs plaquettes dans une seule chambre de réaction, sur plateaux.
Combien de plaquettes peuvent tenir sur le plateau porte-plaquettes ?
SAMCO propose des configurations acceptant des plaquettes de 9 × 3 pouces, 6 × 4 pouces ou 3 × 6 pouces. La capacité exacte dépend du support fourni avec la machine utilisée.
Chaque PD-3800L inclut-il un transfert automatique de plaquettes ?
Non. Le transfert automatique de la cassette vers le plateau était proposé en option. Sa présence doit être vérifiée sur l'équipement disponible.
