Il SAMCO PD-3800L è un sistema di deposizione chimica in fase vapore potenziata al plasma con camera di carico, progettato per la deposizione in batch di film sottili a base di silicio. Più wafer vengono posizionati su un ampio vassoio di supporto e processati insieme nella camera di reazione.
Tra le applicazioni pubblicate figurano la deposizione di ossido di silicio, nitruro di silicio, ossinitruro di silicio e silicio amorfo. Il sistema è destinato ad applicazioni che richiedono produttività in batch, uniformità del film, controllo delle sollecitazioni e processi ripetibili.
Specifiche principali del SAMCO PD-3800L
| Produttore | SAMCO |
|---|---|
| Modello | PD-3800L |
| Tipo di apparecchiatura | Sistema PECVD a lotti con blocco di carico |
| Tecnologia di deposizione | Deposizione chimica da fase vapore potenziata al plasma |
| Area massima di elaborazione | Area del vassoio portaoggetti di circa 360 mm di diametro |
| Caricamento wafer pubblicato | Fino a 9 wafer da 3 pollici, 6 da 4 pollici o 3 da 6 pollici, a seconda del vassoio di supporto. |
| Materiali cinematografici pubblicati | SiO2, SiN, SiON e silicio amorfo |
| Esempi di processi pubblicati | SiH4-SiNx, SiH4-SiO2, SiNx a precursore liquido e TEOS-SiO2 |
| Caricamento dei wafer | Camera di carico/scarico con elaborazione a lotti su vassoi |
| Interfaccia di controllo | Controllo dei parametri tramite touch-screen e memorizzazione delle ricette nella piattaforma pubblicata |
| Condizione | Usato apparecchiature per semiconduttori |
| Disponibilità | Salvo disponibilità di magazzino, configurazione del vettore e conferma dell'ispezione. |
Caratteristiche principali dell'apparecchiatura
Elaborazione in batch di più wafer su un grande vassoio di supporto
Camera di carico/scarico per una maggiore stabilità del processo.
Supporto pubblicato per film di ossido di silicio, nitruro, ossinitruro e silicio amorfo
Progettato per garantire uniformità del film e controllo delle sollecitazioni su tutta la superficie del supporto.
Memorizzazione delle ricette e controllo del processo tramite touch-screen
Per la piattaforma è stato offerto un trasferimento automatico opzionale dei wafer.
Applicazioni tipiche
Il PD-3800L può essere utilizzato per la deposizione di film isolanti, dielettrici e di passivazione nei processi di lavorazione del silicio e dei semiconduttori composti. Il suo ampio vassoio è particolarmente utile quando è necessario processare diversi wafer di dimensioni ridotte nella stessa sessione di deposizione.
Il numero effettivo di wafer dipende dal vassoio di supporto installato. Il materiale del film, la velocità di deposizione, l'uniformità dello spessore e le prestazioni di resistenza dipendono dalle condizioni della camera, dalla configurazione degli elettrodi, dall'erogazione del gas, dai componenti RF, dal controllo della temperatura e dalla ricetta qualificata.
Configurazione e ispezione delle apparecchiature usate
Prima di richiedere un preventivo, i clienti devono confermare il diametro del vassoio porta-wafer e la disposizione dei wafer, il funzionamento del sistema di carico/scarico, le condizioni della camera, il generatore RF, la rete di adattamento, il riscaldamento del substrato, la camera a gas, le gamme MFC, il sistema di erogazione del precursore liquido e le pompe per il vuoto.
Le apparecchiature di trasferimento automatico erano disponibili come optional e non si deve presumere che siano incluse. La fornitura finale deve specificare l'impianto principale, le pompe, le apparecchiature del gas, il vassoio, il computer di controllo e tutti gli armadi esterni.
Richiedi informazioni su SAMCO PD-3800L
Contatta il nostro team per verificare la disponibilità attuale del sistema SAMCO PD-3800L usato. Ti preghiamo di fornire le dimensioni dei wafer, il numero di wafer per lotto, il tipo di pellicola target, la chimica del processo, il paese di destinazione e il programma di installazione.
Contattateci per foto delle apparecchiature, configurazione del vassoio di trasporto, storico della camera, stato delle ispezioni e preventivo.
Domande frequenti
Quali pellicole può depositare il PD-3800L?
Le applicazioni pubblicate includono SiO2, SiN, SiON e silicio amorfo. La configurazione del gas e del precursore installati deve supportare il film richiesto.
Il PD-3800L è un sistema a wafer singolo?
No. È progettato per la lavorazione in batch di più wafer in un'unica camera di reazione, utilizzando vassoi.
Quante cialde possono essere posizionate sul vassoio di supporto?
SAMCO elenca configurazioni che includono wafer da 9 × 3 pollici, 6 × 4 pollici o 3 × 6 pollici. La capacità esatta dipende dal supporto fornito con la macchina utilizzata.
Ogni PD-3800L include il trasferimento automatico dei wafer?
No. Il trasferimento automatico da cassetta a vassoio era offerto come opzione. La sua presenza deve essere verificata sull'apparecchiatura disponibile.
