Die DNS SKW80 ist eine Halbleiterbeschichtungs- und Entwicklungsanlage, die in Fotolithografieprozessen zur Fotolackbeschichtung und Nachbelichtungsentwicklung eingesetzt wird. Die Liste der verfügbaren Geräte kennzeichnet die Plattform für die Bearbeitung von 6-Zoll- und 8-Zoll-Wafern.
Die Auflistung bezieht sich auf die Prozesskonfigurationen 1C+2D, 2C und 2D. Da die einzelnen Systeme unterschiedliche Beschichtungsbecken, Entwicklungsmodule, Wärmeeinheiten und Wafer-Handling-Komponenten enthalten können, sollte die tatsächlich installierte Konfiguration vor dem Kauf bestätigt werden.
DNS SKW80 Hauptspezifikationen
| Hersteller | DNS |
|---|---|
| Modell | SKW80 |
| Gerätetyp | Wafer-Beschichtungs- und Entwicklerbahnsystem |
| Unterstützte Wafergrößen | Laut der verfügbaren Auflistung handelt es sich um 6-Zoll- und 8-Zoll-Wafer. |
| Aufgelistete Prozesskonfigurationen | 1C+2D, 2C oder 2D; die tatsächlich installierten Module müssen bestätigt werden |
| Primärprozess | Fotolackbeschichtung und Entwicklung |
| Zustand | Gebraucht Halbleiteranlagen |
| Verfügbarkeit | Vorbehaltlich der aktuellen Lagerverfügbarkeit und Konfigurationsbestätigung |
Wichtigste Ausstattungsmerkmale
Konzipiert für die Waferbearbeitung mit 150 mm und 200 mm Durchmesser.
Geeignet für Fotolackbeschichtung und Entwicklungsschritte
Die verfügbaren Angebote beziehen sich auf Beschichtungs- und Entwicklungsmodulkombinationen.
Anwendbar auf Halbleiter-Photolithographie-Prozesslinien
Die tatsächliche Konfiguration der Wärme-, Transport- und Chemikalienzufuhr kann variieren
Typische Anwendungen
Die DNS SKW80 kann zum Auftragen von Fotolack vor der Waferbelichtung und zur Entwicklung des Fotolackmusters nach der Belichtung verwendet werden. Je nach installierten Modulen unterstützt sie beschichtungsorientierte, entwicklungsorientierte oder kombinierte Beschichtungs- und Entwicklungsprozesse.
Kunden sollten vor der Auswahl eines gebrauchten Systems den Waferdurchmesser, den Resisttyp, die Entwicklerchemie, das Kassettenformat, den Zustand des Prozessmoduls und die Kompatibilität mit der vorgesehenen Lithographieausrüstung überprüfen.
Konfiguration und Inspektion gebrauchter Geräte
Die in der Quellenliste aufgeführten Kurzkonfigurationen geben nicht den vollständigen Aufbau einer einzelnen Maschine wieder. Beschichtungsbehälter, Entwicklerbecher, Heizplatten, Kühlplatten, Wafer-Roboter, Chemikalienschränke und Abluftanschlüsse sollten mit dem verfügbaren Gerät abgeglichen werden.
Vor der Angebotserstellung sollten Kunden die Seriennummer, den Zustand des Controllers, die installierten Module, den Wafer-Handling-Test, das Chemikalienzufuhrsystem, die Spinmotoren, die Temperaturregler, die Sicherheitsverriegelungen und den aktuellen Einschaltzustand bestätigen.
DNS-SKW80-Informationen anfordern
Kontaktieren Sie unser Team, um die aktuelle Verfügbarkeit der gebrauchten DNS SKW80 zu prüfen. Bitte geben Sie Ihre Wafergröße, den Fotolackprozess, die benötigten Beschichtungs- und Entwicklungsmodule, das Zielland und den geplanten Installationstermin an.
Kontaktieren Sie uns für Fotos der Maschine, Details zum installierten Modul, den Inspektionsstatus und ein Angebot.
Häufig gestellte Fragen
Welche Wafergrößen kann die DNS SKW80 verarbeiten?
Die verfügbare Auflistung weist den SKW80 für 6-Zoll- und 8-Zoll-Wafer aus. Die installierte Kassette, der Roboter-Endeffektor und die Prozessmodule sollten auf den erforderlichen Waferdurchmesser überprüft werden.
Sind bei jedem SKW80 sowohl Beschichtungs- als auch Entwicklungsmodule enthalten?
Nicht unbedingt. Die Quelle nennt mehrere Konfigurationen, darunter 1C+2D, 2C und 2D. Das genaue Prozesslayout muss für die jeweilige Maschine bestätigt werden.
Lässt sich die SKW80 an ein Lithographie-Belichtungssystem anschließen?
Die Integrationsmöglichkeiten hängen von der Wafer-Schnittstelle, der Konfiguration der Fabrikautomation, der Softwarekommunikation und dem verwendeten Belichtungswerkzeug ab. Diese Punkte sollten vor der Installation überprüft werden.
Ist der verfügbare DNS-Server SKW80 derzeit betriebsbereit?
Der Betriebszustand kann nicht allein anhand der Modellbeschreibung bestätigt werden. Einschaltzustand, Wafertransfer, Schleuderbetrieb, thermische Einheiten und Chemikalienzufuhr müssen überprüft werden.
