De DNS SKW80 is een halfgeleidercoater en -ontwikkelaar die wordt gebruikt in fotolithografieprocessen voor het aanbrengen van fotolak en de nabewerking na belichting. De lijst met beschikbare apparatuur geeft aan dat het platform geschikt is voor de verwerking van 6-inch en 8-inch wafers.
De beschrijving verwijst naar 1C+2D-, 2C- en 2D-procesconfiguraties. Omdat individuele systemen verschillende coatingkommen, ontwikkelmodules, thermische eenheden en waferhandlingcomponenten kunnen bevatten, dient de daadwerkelijk geïnstalleerde configuratie vóór aankoop te worden bevestigd.
Belangrijkste specificaties van de DNS SKW80
| Fabrikant | DNS |
|---|---|
| Model | SKW80 |
| Apparaattype | Wafercoater- en ontwikkelaarsysteem |
| Ondersteunde waferformaten | 6-inch en 8-inch wafers, volgens de beschikbare lijst. |
| Lijst met procesconfiguraties | 1C+2D, 2C of 2D; de daadwerkelijk geïnstalleerde modules moeten worden bevestigd. |
| Primair proces | Fotolakcoating en -ontwikkeling |
| Voorwaarde | Gebruikt halfgeleiderapparatuur |
| Beschikbaarheid | Onder voorbehoud van actuele voorraad en configuratiebevestiging. |
Belangrijkste kenmerken van de apparatuur
Ontworpen voor waferverwerking van 150 mm en 200 mm.
Geschikt voor het aanbrengen en ontwikkelen van fotolak.
De beschikbare aanbiedingen verwijzen naar combinaties van coatings en ontwikkelmodules.
Van toepassing op fotolithografieproceslijnen voor halfgeleiders.
De daadwerkelijke configuratie van de thermische, overdrachts- en chemische toevoer kan variëren.
Typische toepassingen
De DNS SKW80 kan worden gebruikt om fotolak aan te brengen vóór de belichting van de wafer en om het lakpatroon na de belichting te ontwikkelen. Afhankelijk van de geïnstalleerde modules kan het systeem coating-, ontwikkelings- of gecombineerde coating- en ontwikkelprocessen ondersteunen.
Klanten dienen de waferdiameter, het resisttype, de chemische samenstelling van de ontwikkelaar, het cassetteformaat, de staat van de procesmodule en de compatibiliteit met de beoogde lithografieapparatuur te controleren alvorens een gebruikt systeem te selecteren.
Configuratie en inspectie van gebruikte apparatuur
De in de bronlijst weergegeven beknopte configuraties bevestigen niet de volledige lay-out van een individuele machine. Coatingkommen, ontwikkelbekers, verwarmingsplaten, koelplaten, waferrobots, chemische kasten en afzuigaansluitingen moeten worden gecontroleerd aan de hand van de beschikbare machine.
Voordat een offerte wordt uitgebracht, dienen klanten het serienummer, de staat van de controller, de geïnstalleerde modules, de wafer-handlingtest, het chemische toevoersysteem, de spinmotoren, de temperatuurregelunits, de veiligheidsvergrendelingen en de huidige inschakelstatus te controleren.
DNS-aanvraag SKW80-informatie
Neem contact op met ons team om de actuele beschikbaarheid van de gebruikte DNS SKW80 te controleren. Vermeld hierbij uw waferformaat, fotolakproces, benodigde coating- en ontwikkelmodules, bestemmingsland en verwachte installatieplanning.
Neem contact met ons op voor foto's van de machine, details van de geïnstalleerde module, de status van de inspectie en een offerte.
Veelgestelde vragen
Welke waferformaten kan de DNS SKW80 verwerken?
De beschikbare specificaties vermelden de SKW80 voor 6-inch en 8-inch wafers. Controleer of de geïnstalleerde cassette, robotgrijper en procesmodules geschikt zijn voor de vereiste waferdiameter.
Bevat elke SKW80 zowel coating- als ontwikkelmodules?
Niet per se. De bron vermeldt verschillende configuraties, waaronder 1C+2D, 2C en 2D. De exacte proceslay-out moet voor de betreffende machine worden bevestigd.
Kan de SKW80 worden aangesloten op een lithografiebelichtingssysteem?
Mogelijke integratie is afhankelijk van de waferinterface, de configuratie van de fabrieksautomatisering, de softwarecommunicatie en het gebruikte belichtingsapparaat. Deze aspecten dienen vóór de installatie te worden gecontroleerd.
Is de beschikbare DNS SKW80 momenteel operationeel?
De operationele staat kan niet alleen aan de hand van de modelspecificaties worden vastgesteld. De inschakelstatus, waferoverdracht, spinbewerking, thermische eenheden en chemische toevoer moeten worden gecontroleerd.
