De Applied Materials P5000, ook bekend als het Precision 5000-platform, is een single-wafer, multi-chain halfgeleiderverwerkingssysteem. Deze configuratie wordt aangeduid als een PECVD-systeem voor de depositie van siliciumoxide en siliciumnitride op wafers van 150 mm en 200 mm.
Het modulaire platform kan meerdere afzonderlijke proceskamers rond een centraal wafer-handlingsysteem ondersteunen. Omdat P5000-systemen met verschillende kamertypes en proceskits werden geleverd, moet de geïnstalleerde PECVD-configuratie voor de specifieke gebruikte machine worden gecontroleerd.
Belangrijkste specificaties van de Applied Materials P5000 PECVD
| Fabrikant | Toegepaste materialen |
|---|---|
| Platform | Precisie 5000 |
| Model | P5000 PECVD |
| Apparaattype | PECVD-systeem met meerdere kamers voor één wafer |
| Vermelde waferformaten | 150 mm en 200 mm wafers |
| Gepubliceerde platformcapaciteit | Tot wel vier afzonderlijke proceskamers, afhankelijk van de configuratie. |
| Lijst met filmmaterialen | SiO2 en SiN |
| Aanvullend gepubliceerd PECVD-materiaal | Amorf silicium op correct geconfigureerde systemen |
| Gepubliceerde bedrijfstemperatuur | Ongeveer 200–400 °C voor een representatieve PECVD-configuratie; het temperatuurbereik voor de specifieke kamer moet nog worden bevestigd. |
| Waferverwerking | Sequentiële verwerking van afzonderlijke wafers |
| Status van de bronvermelding | Te koop aangeboden; actuele hoeveelheid en configuratie dienen opnieuw te worden bevestigd. |
| Voorwaarde | Gebruikt halfgeleiderapparatuur |
| Beschikbaarheid | Onder voorbehoud van actuele voorraad, kamerconfiguratie en bevestiging na inspectie. |
Belangrijkste kenmerken van de apparatuur
Platformarchitectuur met meerdere kamers op één wafer
Geschikt voor wafers van 150 mm en 200 mm.
PECVD-afzetting van siliciumoxide en siliciumnitride
Tot vier onafhankelijke proceskamers op het gepubliceerde platform.
Gecentraliseerde overdracht van wafers tussen laadstation en proceskamers
Individuele kamerconfiguraties kunnen verschillende filmprocessen ondersteunen.
Typische toepassingen
Een P5000 PECVD-configuratie kan worden gebruikt voor het afzetten van diëlektrische en passiveringsfilms zoals siliciumoxide en siliciumnitride. Geschikt uitgeruste kamers kunnen ook processen voor amorf silicium of gespecialiseerde oxiden ondersteunen.
De exacte filmcapaciteit hangt af van het type geïnstalleerde kamer, de RF-generator, de elektrode- en verwarmingseenheid, het gaspaneel, het precursorsysteem en de proceskit. De platformnaam alleen is niet voldoende om een specifiek afzettingsrecept te bevestigen.
Configuratie en inspectie van gebruikte apparatuur
Voordat een offerte wordt uitgebracht, dienen klanten het aantal en de identificatie van de geïnstalleerde kamers, de wafergrootte-instellingen, het laadstation, de transferrobot, de kamerverwarmers, de RF-generatoren, de aanpassingsnetwerken, de gaspanelen, de MFC-reeksen, de vacuümpompen en de procesbesturingssoftware te bevestigen.
Op de bronpagina staan meerdere beschikbare systemen vermeld, maar de kamerindelingen zijn mogelijk niet identiek. Voor de specifieke machine die wordt aangeboden, dienen actuele foto's, kamerlabels, configuratiebestanden en een complete leveringslijst te worden geraadpleegd.
Informatie aanvragen over Applied Materials P5000
Neem contact op met ons team om de actuele beschikbaarheid van de gebruikte Applied Materials P5000 PECVD te controleren. Vermeld hierbij uw waferformaat, doelfilm, benodigde kamergrootte, depositieproces, bestemmingsland en verwachte installatieplanning.
Neem contact met ons op voor actuele foto's van de apparatuur, de configuratie van de inspectiekamer, serienummers, de inspectiestatus en een offerte.
Veelgestelde vragen
Welke waferformaten ondersteunt de vermelde P5000?
De leverancierslijst geeft een overzicht van de beschikbare PECVD-apparatuur voor wafers van 6 en 8 inch. De geïnstalleerde hardware voor waferverwerking moet overeenkomen met de vereiste diameter.
Hoeveel proceskamers kan een P5000 hebben?
Het gepubliceerde Precision 5000-platform kan tot vier afzonderlijke proceskamers ondersteunen. Het daadwerkelijke aantal dat op een gebruikt systeem is geïnstalleerd, kan lager liggen.
Welke films kan de P5000 PECVD afzetten?
De vermelde systemen zijn geschikt voor de afzetting van SiO2 en SiN. Voor andere films zijn de juiste kamer, het gassysteem en een gekwalificeerd procesrecept vereist.
Zijn alle beschikbare P5000-systemen op dezelfde manier geconfigureerd?
Nee. Proceskamers, wafergrootte, pompen, gaspanelen, RF-apparatuur en software kunnen per machine verschillen. Elke configuratie moet afzonderlijk worden gecontroleerd.