Система Applied Materials P5000, также известная как платформа Precision 5000, представляет собой многокамерную систему обработки полупроводников на одной пластине. Данная конфигурация обозначена как установка PECVD для осаждения оксида кремния и нитрида кремния на пластины диаметром 150 мм и 200 мм.
Модульная платформа может поддерживать несколько отдельных технологических камер вокруг центральной системы обработки пластин. Поскольку системы P5000 поставлялись с различными типами камер и технологическими комплектами, необходимо подтвердить конфигурацию установленного PECVD для конкретной используемой машины.
Основные технические характеристики установки Applied Materials P5000 PECVD
| Производитель | Прикладные материалы |
|---|---|
| Платформа | Precision 5000 |
| Модель | P5000 PECVD |
| Тип оборудования | Многокамерная система PECVD для одной пластины |
| Указанные размеры пластин | Пластины диаметром 150 мм и 200 мм |
| Опубликованная пропускная способность платформы | В зависимости от конфигурации, до четырех отдельных технологических камер. |
| Перечисленные пленочные материалы | SiO2 и SiN |
| Дополнительные опубликованные материалы по PECVD | Аморфный кремний в системах соответствующей конфигурации |
| Опубликованная рабочая температура | Примерно 200–400 °C для типичной конфигурации PECVD; диапазон температур, специфичный для конкретной камеры, необходимо уточнить. |
| Обработка кремниевых пластин | Последовательная обработка одной пластины |
| Статус источника | Выставлено на продажу; текущее количество и комплектация требуют уточнения. |
| Состояние | Использовал полупроводниковое оборудование |
| Доступность | При условии наличия товара на складе, соответствия конфигурации камеры и подтверждения результатов проверки. |
Основные характеристики оборудования
Архитектура многокамерной платформы на одной пластине
Поддерживаются кремниевые пластины диаметром 150 мм и 200 мм.
PECVD-осаждение оксида кремния и нитрида кремния
На представленной платформе может быть до четырех независимых технологических камер.
Централизованная передача пластин между загрузочной станцией и технологическими камерами.
Индивидуальные конфигурации камер могут поддерживать различные процессы пленочной обработки.
Типичные области применения
Конфигурация P5000 PECVD может использоваться для осаждения диэлектрических и пассивирующих пленок, таких как оксид кремния и нитрид кремния. Соответствующе оборудованные камеры также могут использоваться для осаждения аморфного кремния или специализированных оксидных процессов.
Точные возможности пленочного осаждения зависят от типа установленной камеры, ВЧ-генератора, электродно-нагревательного узла, газовой панели, системы прекурсоров и технологического комплекта. Одного названия платформы недостаточно для подтверждения конкретного рецепта осаждения.
Конфигурация и осмотр подержанного оборудования
Перед предоставлением коммерческого предложения заказчику следует подтвердить количество и идентификацию установленных камер, конфигурации размеров пластин, станции загрузки, робота-транспортера, нагревателей камер, ВЧ-генераторов, согласующих сетей, газовых панелей, диапазонов MFC, вакуумных насосов и программного обеспечения для управления технологическим процессом.
На странице источника указано несколько доступных систем, но их компоновка камер может не совпадать. Для конкретной предлагаемой машины следует ознакомиться с актуальными фотографиями, обозначениями камер, файлами конфигурации и полным списком комплектации.
Запросить информацию о Applied Materials P5000
Свяжитесь с нашей командой, чтобы уточнить наличие бывших в употреблении установок Applied Materials P5000 PECVD. Пожалуйста, укажите размер вашей пластины, тип целевой пленки, необходимое количество камер, процесс осаждения, страну назначения и предполагаемый график установки.
Свяжитесь с нами, чтобы получить фотографии текущего оборудования, информацию о конфигурации камеры, серийные номера, статус проверки и коммерческое предложение.
Часто задаваемые вопросы
Какие размеры кремниевых пластин поддерживает указанный P5000?
В списке поставщиков указано доступное оборудование для PECVD-процесса с использованием 6-дюймовых и 8-дюймовых пластин. Установленное оборудование для обработки пластин должно соответствовать требуемому диаметру.
Сколько технологических камер может иметь установка P5000?
Описанная платформа Precision 5000 может поддерживать до четырех отдельных технологических камер. Фактическое количество камер, установленных на бывшей в употреблении системе, может быть меньше.
Какие пленки может осаждать установка PECVD P5000?
Перечисленные системы предназначены для осаждения SiO2 и SiN. Для других пленок требуется соответствующая камера, газовая система и сертифицированная технологическая схема.
Все ли доступные системы P5000 сконфигурированы одинаково?
Нет. Технологические камеры, размер пластин, насосы, газовые панели, радиочастотное оборудование и программное обеспечение могут различаться в зависимости от конкретной машины. Каждую конфигурацию следует проверять отдельно.