Le système Applied Materials P5000, également connu sous le nom de plateforme Precision 5000, est un système de traitement de semi-conducteurs monocouche à chambres multiples. La configuration décrite ici est un outil PECVD pour le dépôt d'oxyde de silicium et de nitrure de silicium sur des plaquettes de 150 mm et 200 mm.
La plateforme modulaire peut accueillir plusieurs chambres de traitement distinctes autour d'un système central de manipulation des plaquettes. Les systèmes P5000 étant fournis avec différents types de chambres et de kits de traitement, la configuration PECVD installée doit être vérifiée pour chaque machine utilisée.
Spécifications principales du système PECVD P5000 d'Applied Materials
| Fabricant | Matériaux appliqués |
|---|---|
| Plate-forme | Précision 5000 |
| Modèle | P5000 PECVD |
| Type d'équipement | Système PECVD multichambre à plaquette unique |
| Tailles de plaquettes indiquées | plaquettes de 150 mm et 200 mm |
| Capacité de la plateforme publiée | Jusqu'à quatre chambres de traitement distinctes, selon la configuration |
| Documents cinématographiques répertoriés | SiO2 et SiN |
| Documents PECVD supplémentaires publiés | Silicium amorphe sur des systèmes configurés de manière appropriée |
| Température de fonctionnement publiée | Environ 200 à 400 °C pour une configuration PECVD représentative ; la plage spécifique à la chambre doit être confirmée. |
| Traitement des plaquettes | Traitement séquentiel sur plaquette unique |
| État de la liste des sources | En vente ; la quantité et la configuration actuelles doivent être reconfirmées. |
| Condition | Utilisé équipement semi-conducteur |
| Disponibilité | Sous réserve de disponibilité des stocks, de la configuration de la chambre et de la confirmation de l'inspection |
Principales caractéristiques de l'équipement
Architecture de plateforme multichambre sur une seule plaquette
Support homologué pour les plaquettes de 150 mm et 200 mm
Dépôt PECVD d'oxyde de silicium et de nitrure de silicium
Jusqu'à quatre chambres de traitement indépendantes sur la plateforme publiée
Transfert centralisé des plaquettes entre la station de chargement et les chambres de traitement
Les configurations individuelles des chambres peuvent prendre en charge différents procédés de film.
Applications typiques
Une configuration PECVD P5000 peut être utilisée pour déposer des films diélectriques et de passivation tels que l'oxyde de silicium et le nitrure de silicium. Des chambres correctement équipées peuvent également prendre en charge le silicium amorphe ou des procédés d'oxydes spécialisés.
Les performances exactes du film dépendent du type de chambre, du générateur RF, de l'ensemble électrode-chauffage, du panneau de gaz, du système de précurseurs et du kit de traitement. Le nom de la plateforme seul ne suffit pas à confirmer un protocole de dépôt particulier.
Configuration et inspection du matériel d'occasion
Avant l'établissement du devis, les clients doivent confirmer le nombre et l'identification des chambres installées, de la configuration de la taille des plaquettes, de la station de chargement, du robot de transfert, des éléments chauffants des chambres, des générateurs RF, des réseaux d'adaptation, des panneaux à gaz, des gammes MFC, des pompes à vide et du logiciel de contrôle de processus.
La page source répertorie plusieurs systèmes disponibles, mais la configuration de leurs chambres peut différer. Il convient de consulter les photos, les étiquettes des chambres, les fichiers de configuration et la liste complète des pièces livrées pour chaque machine proposée.
Demande d'informations sur le produit Applied Materials P5000
Contactez notre équipe pour connaître la disponibilité actuelle des systèmes PECVD Applied Materials P5000 d'occasion. Veuillez indiquer la taille de vos plaquettes, l'épaisseur du film cible, le nombre de chambres souhaité, le procédé de dépôt, le pays de destination et le calendrier d'installation prévu.
Contactez-nous pour obtenir des photos de l'équipement actuel, la configuration de la chambre, les numéros de série, l'état de l'inspection et un devis.
Foire aux questions
Quelles sont les tailles de plaquettes prises en charge par le P5000 mentionné ?
La liste des fournisseurs indique les équipements PECVD disponibles pour les plaquettes de 6 et 8 pouces. Le matériel de manipulation des plaquettes installé doit correspondre au diamètre requis.
Combien de chambres de traitement peut comporter un P5000 ?
La plateforme Precision 5000, telle que décrite dans la documentation, peut prendre en charge jusqu'à quatre chambres de traitement distinctes. Le nombre réel installé sur un système d'occasion peut être inférieur.
Quels types de films peut-on déposer avec le P5000 PECVD ?
Les systèmes mentionnés sont conçus pour le dépôt de SiO2 et de SiN. Le dépôt d'autres films nécessite une chambre, un système de gaz et un procédé adaptés.
Tous les systèmes P5000 disponibles sont-ils configurés de la même manière ?
Non. Les chambres de traitement, la taille des plaquettes, les pompes, les panneaux de gaz, l'équipement RF et les logiciels peuvent varier d'une machine à l'autre. Chaque configuration doit être vérifiée séparément.