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Macchina per rivestimento e sviluppo DNS SCW60A

Sistema di rivestimento e sviluppo DNS SCW60A usato per wafer da 150 mm, elencato con configurazioni di processo 2C e 2D. Richiedere informazioni sui moduli effettivamente installati.

DNS SCW60A Coater & Developer IMMAGINE DELL'ATTREZZATURA
Revisione della configurazione Modello e opzioni installate
Forniture nuove/usate Soggetto alla disponibilità del progetto
Consegna globale Valutazione basata sulla destinazione
Richiesta di offerta tecnica Abbinamento di pacchetti e processi

Il DNS SCW60A è un sistema di rivestimento e sviluppo per wafer, destinato alla lavorazione di fotoresist nella fotolitografia dei semiconduttori. L'elenco delle apparecchiature disponibili lo identifica come un sistema da 6 pollici con una configurazione di processo 2C e 2D.

La macchina può essere considerata per il rivestimento del fotoresist prima dell'esposizione e per lo sviluppo del wafer dopo l'esposizione. Il numero esatto e le condizioni delle vasche di rivestimento, dei moduli di sviluppo, delle unità termiche e dei componenti di trasferimento devono essere verificati sulla macchina disponibile.

DNS SCW60A coater and developer

Specifiche principali del DNS SCW60A

ProduttoreDNS
ModelloSCW60A
Nome alternativo dell'inserzioneDNS SCW60
Tipo di apparecchiaturaRivestitore e sviluppatore di wafer
Dimensioni del wafer supportateSecondo l'elenco disponibile, si tratta di wafer da 6 pollici.
Configurazione del processo elencato2C e 2D; è necessario confermare la configurazione effettivamente installata.
Processo primarioRivestimento e sviluppo del fotoresist
CondizioneUsato apparecchiature per semiconduttori
DisponibilitàSalvo disponibilità di magazzino e conferma della configurazione

Caratteristiche principali dell'apparecchiatura

  • Progettato per wafer di semiconduttori da 150 mm

  • Supporta i processi di rivestimento e sviluppo del fotoresist

  • L'elenco delle fonti identifica la capacità di processo 2C e 2D

  • Adatto all'integrazione in linee di fotolitografia già esistenti.

  • Le condizioni del modulo della macchina usata possono essere verificate prima del preventivo.

Applicazioni tipiche

Il sistema DNS SCW60A può essere utilizzato per la deposizione per centrifugazione di fotoresist su wafer da 150 mm prima dell'esposizione. Dopo la fase di esposizione, la sezione di sviluppo rimuove le regioni di resist appropriate per formare il pattern litografico desiderato.

La compatibilità del processo dipende dalle coppette di rivestimento installate, dagli ugelli di sviluppo, dalle linee di resist e di prodotti chimici, dalle piastre riscaldanti, dalle piastre di raffreddamento, dai supporti per wafer e dalle ricette disponibili.

DNS SCW60A control panel

Configurazione e ispezione delle apparecchiature usate

La descrizione 2C e 2D fornita dal venditore offre solo un'indicazione di base del modulo. Non conferma il flusso di processo completo, il numero di unità termiche, il sistema chimico, la configurazione delle cassette o l'interfaccia di automazione della singola macchina.

Prima dell'acquisto, i clienti devono verificare l'etichetta del modello, il numero di serie, le dimensioni del wafer, i moduli di rivestimento e sviluppo, il funzionamento del motore di rotazione, il movimento del robot, il controllo della temperatura, l'armadio chimico, i requisiti di aspirazione e lo stato attuale dell'alimentazione.

Richiesta di informazioni DNS SCW60A

Contatta il nostro team per verificare la disponibilità attuale del sistema DNS SCW60A usato. Ti preghiamo di fornire le dimensioni del wafer, i requisiti relativi al resist e allo sviluppatore, il flusso di processo richiesto, il paese di destinazione e il programma di installazione.

Contattateci per ricevere foto aggiornate delle apparecchiature, informazioni sui moduli installati, stato delle ispezioni e un preventivo.

Domande frequenti

Quali dimensioni di wafer supporta il DNS SCW60A?

L'elenco disponibile identifica il sistema per wafer da 6 pollici. La configurazione della cassetta e della modalità di manipolazione deve essere comunque verificata prima dell'acquisto.

Cosa significano le configurazioni 2C e 2D elencate?

Nell'elenco disponibile sono indicate le capacità di processo di rivestimento e sviluppo. Il numero preciso, la posizione e lo stato dei moduli di processo installati devono essere verificati sulla macchina.

La SCW60A è in grado di eseguire uno specifico processo di fotoresist?

La compatibilità dipende dalle linee chimiche installate, dalle tazze di rivestimento, dal sistema di dosaggio, dai moduli termici e dalle ricette disponibili. I requisiti di processo devono essere esaminati prima di richiedere un preventivo.

È possibile verificare le condizioni di funzionamento consultando la descrizione del prodotto?

No. L'elenco identifica il modello e la configurazione di base, ma il trasferimento dei wafer, il funzionamento della rotazione, il controllo della temperatura e l'erogazione di sostanze chimiche richiedono un'ispezione dell'apparecchiatura.