Die Tokyo Electron TEL MARK Vz ist ein Wafer-Coater und -Entwickler für die Fotolackverarbeitung in der Halbleiter-Fotolithografie. Laut der verfügbaren Produktbeschreibung ist dieses System für die Bearbeitung von 6-Zoll-Wafern mit einer 2C- und 2D-Konfiguration ausgelegt.
Die MARK Vz-Plattform kombiniert Resistbeschichtung und Entwicklung mit Waferhandhabung und zugehörigen chemischen und umwelttechnischen Systemen. Die genaue Anordnung der Prozessmodule, die thermische Konfiguration und die Schnittstellenbedingungen sollten an den vorhandenen Anlagen überprüft werden.
TEL MARK Vz Hauptspezifikationen
| Hersteller | Tokyo Electron Limited |
|---|---|
| Marke | TEL |
| Modell | MARK Vz |
| Gerätetyp | Wafer-Beschichtungs- und Entwicklerbahnsystem |
| Unterstützte Wafergröße | 6-Zoll-Wafer, laut der verfügbaren Auflistung |
| Aufgelistete Prozesskonfiguration | 2C und 2D; die tatsächlich installierten Module müssen bestätigt werden. |
| Primärprozess | Fotolackbeschichtung und Entwicklung |
| Zustand | Gebraucht Halbleiteranlagen |
| Verfügbarkeit | Vorbehaltlich der aktuellen Lagerverfügbarkeit und Konfigurationsbestätigung |
Wichtigste Ausstattungsmerkmale
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Konzipiert für die Photolithographie-Bearbeitung von 150-mm-Wafern.
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Kombiniert Fotolackbeschichtung und Entwicklungsfunktionen
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Die Quellenangabe identifiziert die Prozessfähigkeit für 2C und 2D.
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Separate Abteilungen für Chemikalienversorgung und Umweltschutz können vorgesehen sein.
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Geeignet für etablierte Halbleiter- und Forschungsprozesslinien
Typische Anwendungen
Das TEL MARK Vz-System kann Fotolack auf 150-mm-Wafer auftragen, die erforderliche Beschichtungssequenz unterstützen und den Lack nach der Lithografiebelichtung entwickeln. Die Plattform eignet sich für die Halbleiterfertigung, die MEMS-Verarbeitung und andere kompatible Fotolithografieanwendungen auf Wafer-Ebene.
Die tatsächliche Prozessunterstützung hängt von den installierten Beschichtungs- und Entwicklungsmodulen, Wärmeplatten, Fotolackversorgung, Entwicklerzufuhr, Waferhandhabungskonfiguration und Softwarerezepten ab.
Konfiguration und Inspektion gebrauchter Geräte
Die verfügbaren Quellbilder zeigen ein Hauptsystem, einen Klimaschrank, rückseitige Anschlüsse und einen Chemikalienschrank. Alle für den Betrieb erforderlichen Komponenten sollten mit der endgültigen Lieferliste verglichen werden.
Vor der Angebotserstellung sollten Kunden die Seriennummer der Maschine, die Prozessmodule, die Heiz- und Kühlplatten, den Wafer-Roboter, die Kassettenstationen, den Chemikalienschrank, die Temperaturregelungseinrichtungen, die Abluftanschlüsse, die Steuerungssoftware und den aktuellen Einschaltzustand bestätigen.
TEL MARK Vz-Informationen anfordern
Kontaktieren Sie unser Team, um die aktuelle Verfügbarkeit der gebrauchten TEL MARK Vz zu prüfen. Bitte geben Sie Ihre Wafergröße, den Fotolacktyp, den erforderlichen Beschichtungs- und Entwicklungsprozess, die Schnittstelle des Belichtungswerkzeugs, das Zielland und den Installationsplan an.
Kontaktieren Sie uns für Fotos der Maschine, der installierten Module, des Lieferumfangs, des Inspektionsstatus und ein Angebot.
Häufig gestellte Fragen
Welche Wafergröße verarbeitet der TEL MARK Vz?
Die verfügbare Auflistung weist diese MARK Vz-Konfiguration für 6-Zoll-Wafer aus. Die Kassette und die Wafer-Handhabungskomponenten sollten vor der endgültigen Bestätigung überprüft werden.
Ist die MARK Vz eine reine Beschichtungsmaschine?
Die Auflistung weist das Gerät als Beschichter und Entwickler mit 2C- und 2D-Prozessfähigkeit aus. Die genaue Modulanordnung muss am jeweiligen System überprüft werden.
Ist im System auch der Chemikalienschrank enthalten?
Auf der Quellseite ist ein Chemikalienschrank abgebildet, der vollständige Lieferumfang sollte jedoch im Angebot und in der Ausrüstungslieferliste bestätigt werden.
Kann das TEL MARK Vz mit einem Belichtungsmessgerät verbunden werden?
Die Integration hängt von der Wafer-Schnittstelle, der Leiterbahnkonfiguration, der Softwarekommunikation und dem gewählten Lithographiesystem ab. Die Kompatibilität sollte für die vorgesehene Produktionslinie überprüft werden.
