Die Tokyo Electron TEL ALPHA 8S ist eine vertikale Chargen-Wärmebehandlungsanlage, die für die Oxidation, das Tempern und andere Hochtemperatur-Ofenprozesse von Halbleiterwafern entwickelt wurde. Die verfügbare Geräteliste weist die Plattform für 150-mm- und 200-mm-Wafer aus.
Die ALPHA 8S-Systeme wurden in verschiedenen Prozesskonfigurationen geliefert. Je nach installiertem Ofenrohr, Gassystem, Quarzglaswaren und Steuerungssoftware kann eine einzelne Maschine für Nassoxidation, Trockenoxidation, Glühen oder ausgewählte LPCVD-Prozesse konfiguriert werden.

| Hersteller | Tokyo Electron Limited |
|---|---|
| Marke | TEL |
| Modell | ALPHA 8S |
| Gerätetyp | Vertikaler Chargen-Diffusions- und Wärmebehandlungsofen |
| Unterstützte Wafergrößen | 150-mm- und 200-mm-Wafer, gemäß der verfügbaren Auflistung |
| Waferverarbeitung | Chargenweise thermische Verarbeitung |
| Veröffentlichte Prozessanwendungen | Nassoxidation, Trockenoxidation, Glühen und konfigurationsabhängige LPCVD |
| Tatsächliche Prozesskonfiguration | Vorbehaltlich der Bestätigung von installiertem Ofenrohr, Gaspanel, Quarzwaren und Rezeptur. |
| Zustand | Gebraucht Halbleiteranlagen |
| Verfügbarkeit | Vorbehaltlich des aktuellen Lagerbestands, der Prüfung und der Konfigurationsbestätigung |
Architektur eines vertikalen Chargenofens
Veröffentlichte Unterstützung für 150-mm- und 200-mm-Wafer
Geeignet für Halbleiteroxidations- und Glühprozesse
Die Prozessfähigkeit wird durch das installierte Ofenrohr- und Gassystem bestimmt.
Automatisierte Waferbeladung und Rezeptursteuerung je nach Konfiguration
Der TEL ALPHA 8S kann für die nasse oder trockene thermische Oxidation, die Aktivierung von Dotierstoffen, das thermische Tempern und andere Chargenofenprozesse eingesetzt werden. Entsprechend konfigurierte Systeme unterstützen auch LPCVD-Prozesse für Silizium, Siliziumnitrid oder Siliziumdioxid.
Die genaue Anwendung sollte anhand der Prozessbezeichnung, des Ofenrohrmaterials, des Gasschranks, der MFC-Konfiguration, der Abgasbehandlung, des Quarzschiffchens und der verfügbaren Prozessaufzeichnungen bestätigt werden.
Die ALPHA 8S-Plattform wurde in verschiedenen Prozessvarianten geliefert, daher lässt sich der installierte Prozess nicht allein anhand der Modellbezeichnung identifizieren. Kunden sollten prüfen, ob die verfügbare Maschine für Oxidation, Glühen, Diffusion oder Abscheidung konfiguriert ist.
Vor der Angebotserstellung sollten der Ofenrohr, der Zustand der Heizung, die Quarzwaren, das Waferschiffchen, der Belademechanismus, das Gaspanel, die MFCs, die Temperaturregler, das Abgassystem, die Software und der aktuelle Einschaltzustand überprüft werden.
Kontaktieren Sie unser Team, um die aktuelle Verfügbarkeit der gebrauchten TEL ALPHA 8S zu prüfen. Bitte geben Sie Ihre Wafergröße, den angestrebten thermischen Prozess, die benötigten Gase, die bevorzugte Chargenkonfiguration, das Zielland und den Installationsplan an.
Kontaktieren Sie uns für Fotos der Ausrüstung, Informationen zur Prozesskonfiguration, zum mitgelieferten Quarzgeschirr, zum Inspektionsstatus und für ein Angebot.
Die verfügbare Auflistung kennzeichnet das System für 150-mm- und 200-mm-Wafer. Die installierte Waferhalterung und die Ladevorrichtung müssen der erforderlichen Wafergröße entsprechen.
Nein. Einzelne Anlagen können für Oxidations-, Glüh-, Diffusions- oder ausgewählte Abscheidungsprozesse konfiguriert werden. Das installierte Rohr- und Gassystem muss überprüft werden.
Die Plattform wurde für die Nass- und Trockenoxidation genutzt, allerdings müssen die erforderliche Gaszufuhr, die Dampferzeugungsanlagen und die Prozesshardware an der verfügbaren Maschine vorhanden sein.
Wichtige Prüfpunkte sind unter anderem die Heizung, das Ofenrohr, die Quarzglaswaren, der Belademechanismus, das Gaspanel, die MFCs, die Temperaturregelung, das Abgassystem und die Betriebssoftware.