De Tokyo Electron TEL ALPHA 8S is een verticaal thermisch batchverwerkingssysteem dat is ontwikkeld voor de oxidatie, gloeiing en andere hogetemperatuurprocessen van halfgeleiderwafels. De beschikbare apparatuurlijst geeft aan dat het platform geschikt is voor zowel 150 mm als 200 mm wafels.
De ALPHA 8S-systemen werden geleverd in verschillende procesconfiguraties. Afhankelijk van de geïnstalleerde ovenbuis, het gassysteem, het kwartsglaswerk en de besturingssoftware, kan een individuele machine worden geconfigureerd voor natte oxidatie, droge oxidatie, gloeien of geselecteerde LPCVD-processen.

| Fabrikant | Tokyo Electron Limited |
|---|---|
| Merk | TEL |
| Model | ALPHA 8S |
| Apparaattype | Verticale batchdiffusie- en thermische verwerkingsoven |
| Ondersteunde waferformaten | 150 mm en 200 mm wafers, volgens de beschikbare lijst. |
| Waferverwerking | Thermische batchverwerking |
| Gepubliceerde procesapplicaties | Natte oxidatie, droge oxidatie, gloeien en configuratie-afhankelijke LPCVD |
| Werkelijke procesconfiguratie | Onder voorbehoud van de installatie van de ovenbuis, het gaspaneel, het kwartsglaswerk en de bevestiging van het recept. |
| Voorwaarde | Gebruikt halfgeleiderapparatuur |
| Beschikbaarheid | Onder voorbehoud van actuele voorraad, inspectie en configuratiebevestiging. |
Verticale batchovenarchitectuur
Gepubliceerde ondersteuning voor wafers van 150 mm en 200 mm
Geschikt voor oxidatie- en gloeiprocessen van halfgeleiders.
De procescapaciteit wordt bepaald door het geïnstalleerde ovenbuis- en gassysteem.
Geautomatiseerd laden van wafers en receptcontrole afhankelijk van de configuratie.
De TEL ALPHA 8S kan worden gebruikt voor natte of droge thermische oxidatie, activering van doteringsmiddelen, thermisch gloeien en andere batchovenprocessen. Systemen met de juiste configuratie kunnen ook LPCVD-processen voor silicium, siliciumnitride of siliciumoxide ondersteunen.
De exacte toepassing moet worden bevestigd aan de hand van de procesaanduiding, het materiaal van de ovenbuizen, de gaskast, de MFC-configuratie, de uitlaatgasbehandeling, de kwartsboot en de beschikbare procesdocumentatie.
Het ALPHA 8S-platform werd geleverd in meerdere procesvarianten, waardoor de modelnaam alleen niet aangeeft welk proces er is geïnstalleerd. Klanten dienen te controleren of de beschikbare machine is geconfigureerd voor oxidatie, gloeien, diffusie of depositie.
Voordat een offerte wordt uitgebracht, moeten de ovenbuis, de staat van de verwarmer, het kwartsglaswerk, de waferhouder, het laadmechanisme, het gaspaneel, de MFC's, de temperatuurregelaars, het uitlaatsysteem, de software en de huidige inschakelstatus worden gecontroleerd.
Neem contact op met ons team om de actuele beschikbaarheid van de gebruikte TEL ALPHA 8S te controleren. Vermeld hierbij uw waferformaat, het beoogde thermische proces, de benodigde gassen, de gewenste batchconfiguratie, het land van bestemming en uw installatieplanning.
Neem contact met ons op voor foto's van de apparatuur, de procesconfiguratie, het meegeleverde kwartsglaswerk, de inspectiestatus en een offerte.
De beschikbare specificaties geven aan dat het systeem geschikt is voor wafers van 150 mm en 200 mm. De geïnstalleerde waferhouder en laadapparatuur moeten overeenkomen met de vereiste wafergrootte.
Nee. Individuele systemen kunnen worden geconfigureerd voor oxidatie, gloeien, diffusie of specifieke afzettingsprocessen. Het geïnstalleerde buizen- en gassysteem moet worden gecontroleerd.
Het platform is gebruikt voor natte en droge oxidatie, maar de benodigde gastoevoer, stoomopwekkingsapparatuur en proceshardware moeten wel aanwezig zijn op de beschikbare machine.
Belangrijke controles omvatten de verwarmingseenheid, de ovenbuis, het kwartsglaswerk, het laadmechanisme, het gaspaneel, de MFC's, de temperatuurregeling, het uitlaatsysteem en de bedieningssoftware.