TEL ALPHA 8S 立式擴散爐

東京電子TEL ALPHA 8S是一款垂直批量熱處理系統，專為半導體晶圓的氧化、退火和其他高溫爐製程而開發。設備清單顯示，該平台適用於150毫米和200毫米晶圓。

ALPHA 8S 系統提供不同的製程配置。根據所安裝的爐管、氣體系統、石英器皿和控制軟體，每台機器都可以配置用於濕式氧化、乾式氧化、退火或特定的低壓化學氣相沉積 (LPCVD) 製程。

TEL ALPHA 8S 主要規格

主要設備特性

• 立式批次爐結構

• 已發布對 150 毫米和 200 毫米晶圓的支持

• 適用於半導體氧化和退火工藝

• 製程能力取決於所安裝的爐管和燃氣系統。

• 根據配置實現晶圓自動裝載和配方控制

典型應用

TEL ALPHA 8S 可用於濕式或乾式熱氧化、摻雜活化、熱退火和其他批量爐製程。配置得當的系統還可支援矽、氮化矽或氧化矽的低壓化學氣相沉積 (LPCVD) 製程。

具體應用應根據製程名稱、爐管材料、瓦斯櫃、MFC 配置、廢氣處理、石英舟和現有製程記錄來確認。

二手設備配置和檢驗

ALPHA 8S平台提供多種製程配置，因此僅憑型號名稱無法確定特定安裝的製程。客戶應確認所購買設備是配置用於氧化、退火、擴散或沉積製程。

報價前，應檢查爐管、加熱器狀況、石英器皿、晶片舟、裝料機構、燃氣面板、質量流量控制器、溫度控制器、排氣系統、軟體和目前通電狀態。

請求 TEL ALPHA 8S 訊息

請聯絡我們的團隊查詢二手 TEL ALPHA 8S 的當前供貨情況。請提供您的晶圓尺寸、目標熱處理流程、所需氣體、首選批次配置、目的地國家/地區和安裝計劃。

請聯絡我們索取設備照片、製程配置、包含的石英器皿、檢驗狀態和報價。

常見問題解答

TEL ALPHA 8S 可以加工哪些尺寸的晶圓？

現有產品清單中列出了適用於 150 毫米和 200 毫米晶圓的系統。安裝的晶圓托架和裝載硬體必須與所需的晶圓尺寸相符。

所有 ALPHA 8S 是否都配置用於相同的流程？

否。各個系統可配置用於氧化、退火、擴散或特定沉積製程。必須確認已安裝的管路和氣體系統。

ALPHA 8S 可以進行乾式和濕式氧化嗎？

該平台已用於濕式和乾式氧化，但所需的氣體輸送、蒸汽發生設備和製程硬體必須在現有機器上具備。

購買瓦斯爐前應該檢查哪些方面？

重要檢查項目包括加熱器、爐管、石英器皿、裝料機構、燃氣面板、質量流量控制器、溫度控制、排氣系統和操作軟體。