Système RTP Heatpulse 8108 d'AG Associates
Le système Heatpulse 8108 d'AG Associates est un système de traitement thermique rapide pour plaquettes uniques, utilisé dans les procédés semi-conducteurs à haute température contrôlée et de courte durée. La fiche technique disponible indique que le système est compatible avec les plaquettes de 150 mm et 200 mm.
La plateforme Heatpulse chauffe rapidement une plaquette à l'aide de matrices de lampes à incandescence et contrôle la température du procédé grâce à une boucle fermée basée sur un thermocouple ou un pyromètre. Le refroidissement rapide limite le bilan thermique total par rapport aux cycles de four conventionnels plus longs.
Caractéristiques principales de l'AG Heatpulse 8108
| Fabricant | AG Associates |
|---|---|
| Famille de produits | Heatpulse |
| Modèle | 8108 |
| Type d'équipement | Système de traitement thermique rapide monocouche |
| Tailles de plaquettes prises en charge | Jusqu'à 200 mm ; la liste disponible mentionne des plaquettes de 150 mm et de 200 mm. |
| Méthode de chauffage | Réseaux de lampes à incandescence supérieurs et inférieurs |
| Mesure de température | Thermocouple ou pyromètre, selon la configuration installée |
| Contrôle de la température | Régulation en boucle fermée de la température du procédé |
| Méthode de refroidissement | Refroidissement par échangeur de chaleur à paroi froide dans la plateforme publiée |
| Demandes de procédés publiés | Recuit, diffusion contrôlée, oxydation, activation et formation de siliciure |
| Atmosphère de processus | Selon le panneau de gaz, la chambre et les options installés |
| Condition | Utilisé équipement semi-conducteur |
| Disponibilité | Sous réserve de disponibilité des stocks, d'inspection et de confirmation de configuration |
Principales caractéristiques de l'équipement
Traitement thermique rapide sur plaquette unique
Supports publiés pour des substrats jusqu'à 200 mm
Chauffage rapide des plaquettes par lampe à incandescence
Contrôle de température par thermocouple ou pyromètre en boucle fermée
Conception à paroi froide pour un refroidissement rapide après traitement
Convient à la recherche, à la production pilote et aux procédés de fabrication compatibles
Applications typiques
Le Heatpulse 8108 peut être utilisé pour le recuit post-implantation, l'activation des dopants, la diffusion contrôlée, l'oxydation thermique rapide, la formation de siliciures ou de salicides, le refusion et d'autres processus thermiques de courte durée.
La compatibilité du procédé dépend du matériau de la plaquette, de la chambre en quartz, du capteur de température, de l'état de la lampe, de l'alimentation en gaz, du contrôle de l'oxygène et des recettes disponibles. Le procédé requis doit être comparé à la configuration de la machine installée.
Configuration et inspection du matériel d'occasion
Les systèmes Heatpulse 8108 peuvent différer au niveau du capteur de température, du panneau de contrôle des gaz, de l'option de surveillance de l'oxygène, du porte-plaquette, du logiciel de commande et des exigences d'installation. Ces composants doivent être identifiés sur la machine disponible avant l'établissement du devis.
Les points d'inspection importants comprennent les lampes à incandescence, les réflecteurs, la chambre en quartz, le thermocouple ou le pyromètre, les composants de levage et de rotation des plaquettes, le système de refroidissement, les vannes à gaz, les dispositifs de sécurité, le contrôleur, les recettes et l'état actuel de mise sous tension.
Demande d'informations sur AG Heatpulse 8108
Contactez notre équipe pour vérifier la disponibilité actuelle du système AG Associates Heatpulse 8108 d'occasion. Veuillez indiquer la taille de votre plaquette, le matériau du substrat, le processus de recuit ou d'oxydation souhaité, l'atmosphère requise, le pays de destination et le calendrier d'installation.
Contactez-nous pour obtenir des photos actuelles, la configuration du contrôle de la température, l'état de la chambre, le statut de l'inspection et un devis.
Foire aux questions
Quelle est la taille des plaquettes que le Heatpulse 8108 peut traiter ?
La plateforme Heatpulse 8108 prend en charge les substrats jusqu'à 200 mm. Le porte-plaquette installé doit correspondre au diamètre requis.
Quelle est la différence entre un four RTP et un four à chargement par lots ?
Le procédé RTP chauffe rapidement une plaquette pendant un cycle court, tandis qu'un four à diffusion classique chauffe généralement un lot de plaquettes sur un cycle thermique plus long.
Quels processus le Heatpulse 8108 peut-il réaliser ?
Les applications publiées comprennent le recuit, l'activation des dopants, l'oxydation, la diffusion contrôlée, le refusion et la formation de siliciures.
Tous les modèles 8108 utilisent-ils le même capteur de température ?
Non. Les systèmes disponibles peuvent utiliser un thermocouple, un pyromètre ou une configuration de détection spécifique au procédé. Il convient de vérifier le capteur installé avant de choisir l'équipement.
